[发明专利]一种观测等离子体增材制造过程熔池附近透明流场的装置在审
| 申请号： | 201811212999.0 | 申请日： | 2018-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN109226756A | 公开（公告）日： | 2019-01-18 |
| 发明（设计）人： | 孙东科;王学舟;严岩;倪中华 | 申请（专利权）人： | 东南大学 |
| 主分类号： | B22F3/105 | 分类号： | B22F3/105;B33Y50/00 |
| 代理公司： | 南京众联专利代理有限公司 32206 | 代理人： | 周蔚然 |
| 地址： | 210096 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 等离子体 流场 抛物面反射镜 制造过程 观测 熔池 透明 光路系统 光源系统 刀口 反射式光路 图像传感器 成像系统 光学图像 光轴对称 两倍焦距 流体流动 相机镜头 演化过程 制造设备 重要意义 动力学 高能束 控性 制造 分析 | ||
1.一种观测等离子体增材制造过程熔池附近透明流场的装置，其特征在于：包括等离子体增材制造设备、光源系统、光路系统以及成像系统，光源系统包括LED光源以及光纤出射装置；光路系统为抛物面反射镜形成的反射光路；成像系统包括刀口、相机镜头以及CCD/CMOS图像传感器，所述等离子体增材制造设备设置在光源系统与成像系统前端，待观测的等离子体增材制造过程中熔池附近透明流场设置在等离子体增材制造设备的工作台上，所述抛物面反射镜设置在等离子体增材制造设备的工作台前端，所述光源系统、成像系统以及抛物面反射镜形成“V”字锥形反射光路，各部分主轴设置于同一高度。
2.根据权利要求1所述的一种观测等离子体增材制造过程熔池附近透明流场的装置，其特征在于：所述光源系统为黄色LED光源，并用1.5mm小直径光纤在铝壳体中耦合近似点光源进行出射，光源系统由可调节光学支架进行支撑固定。
3.根据权利要求1所述的一种观测等离子体增材制造过程熔池附近透明流场的装置，其特征在于：所述反射镜整体为圆形，镜面为抛物面，设置一V型槽支架与之相切连接固定。
4.根据权利要求1所述的一种观测等离子体增材制造过程熔池附近透明流场的装置，其特征在于：所述光源系统设置在抛物面反射镜的两倍焦距处，其中心连线与抛物面反射镜光轴的偏转角为2°。
5.根据权利要求1所述的一种观测等离子体增材制造过程熔池附近透明流场的装置，其特征在于：所述刀口设置在抛物面反射镜两倍焦距处，对反射光源像进行50%的切割。
6.根据权利要求5所述的一种观测等离子体增材制造过程熔池附近透明流场的装置，其特征在于：所述相机镜头、CCD/CMOS图像传感器设置在刀口后方，其与抛物面反射镜中心连线和抛物面反射镜主光轴的偏转角为-2°。
7.根据权利要求1所述的一种观测等离子体增材制造过程熔池附近透明流场的装置，其特征在于：所述等离子体增材制造设备只有后端面开口，其余三面及顶上封闭。
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