[发明专利]一种用于选择性移除氮化钛硬掩模和/或蚀刻残留物的组合物

权利要求书

1.一种移除组合物，其包含氧化剂、多胺化合物、铵盐和腐蚀抑制剂。

2.如权利要求1所述的移除组合物，其中所述氧化剂选自如下组：过氧化氢、过硫酸铵、过氧苯甲酸、高碘酸、高氯酸、过乙酸及其组合；优选地，所述氧化剂为过氧化氢。

3.如权利要求1或2所述的移除组合物，其中所述多胺化合物选自如下组：乙二胺、1,3-二氨基丙烷、六亚甲基二胺、腐胺、尸胺、亚精胺、精胺、二亚乙基三胺、三亚乙基四胺、四甲基乙二胺、五甲基二亚乙基三胺及其组合；优选地，所述多胺化合物为五甲基二亚乙基三胺或二亚乙基三胺。

4.如权利要求1-3中任一项所述的移除组合物，所述铵盐选自柠檬酸铵、乙酸铵、丙二酸铵、乙二酸铵、乳酸铵、亚氨基二乙酸铵、氯化铵、溴化铵、硫酸铵、磷酸铵及其组合；优选地，所述铵盐为柠檬酸铵、乙酸铵、乙二酸铵或磷酸铵。

5.如权利要求1-4中任一项所述的移除组合物，所述腐蚀抑制剂选自：苯并三唑(BTA)、1,2,4-三唑(TAZ)、甲苯基三唑、5-甲基苯并三唑、5-苯基苯并三唑、5-硝基苯并三唑、苯并三唑羧酸、1-氨基-1,2,4-三唑、羟基苯并三唑、2-(5-氨基戊基)-苯并三唑、1-氨基-1,2,3-三唑、1-氨基-5-甲基-1,2,3-三唑、3-氨基-1,2,4-三唑、苯并咪唑、吡唑及其组合；优选地，所述腐蚀抑制剂为苯并三唑、1,2,4-三唑或5-甲基苯并三唑。

6.如权利要求1-5中任一项所述的移除组合物，其中所述组合物进一步包含溶剂。

7.如权利要求6所述的溶剂，其中所述溶剂为水，其可任选包含有机溶剂。

8.如权利要求1-7中任一项所述的移除组合物，其中所述氧化剂含量为0.1-50重量％，优选为0.5-40重量％，更优选为0.5-30重量％，最优选为0.5-15重量％，例如为1-10％；所述多胺化合物的含量为0.0001-50重量％，优选为0.001-40重量％，更优选为0.05-30重量％，更优选为0.1-30重量％，更优选为1-30重量％，最优选为5-20重量％；所述铵盐含量为0.0001-50重量％，优选为0.001-30重量％，更优选为0.05-20重量％，更优选为0.1-15重量％，更优选为1-15重量％，最优选为2-10重量％；所述腐蚀抑制剂含量为0.0001-10重量％，优选为0.001-10重量％，更优选为0.05-5重量％，更优选为0.01-5重量％，最优选为0.1-2重量％，各自基于所述组合物的总重量。

9.如权利要求1-8中任一项所述的移除组合物，其中所述明组合物的pH为8以上。

10.如权利要求1-9中任一项所述的移除组合物用于选择性移除氮化钛硬掩模和/或蚀刻残留物的用途。

11.一种选择性移除晶片上的氮化钛硬掩模和/或蚀刻残留物的方法，包括：

(1)提供含有氮化钛硬掩模和/或蚀刻残留物的晶片，

(2)使所述晶片与如权利要求1-9中任一项所述的移除组合物接触。