[实用新型]一种光刻胶过滤装置有效

专利信息
申请号: 201720996854.9 申请日: 2017-08-10
公开(公告)号: CN207042010U 公开(公告)日: 2018-02-27
发明(设计)人: 徐明星 申请(专利权)人: 山东芯诺电子科技股份有限公司
主分类号: B01D29/11 分类号: B01D29/11
代理公司: 青岛发思特专利商标代理有限公司37212 代理人: 卢登涛
地址: 272100 山东省济*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 光刻 过滤 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种过滤装置,尤其是一种光刻胶过滤装置。

背景技术

光刻胶又称为光致抗蚀剂,是由树脂、增光剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在某些光刻胶中还添加有添加剂,其是用于控制光刻胶材料特殊方面的化学物质。其中树脂是一种惰性的聚合物(包括碳、氢、氧的有机高分子)基质,用于把光刻胶中的不同材料聚在一起。树脂给予了光刻胶其机械和化学性质,例如粘附性、胶膜厚度、柔顺性和热流稳定性。增光剂是光刻胶中的光敏成分,它对光形式的辐射能,特别在紫外区,会发生反应。溶剂使光刻胶保持液体状态。绝大多数的溶剂在曝光前挥发,对于光刻胶的光化学性质几乎没有影响。

半导体芯片生产过程中使用大量光刻胶,但是其实际利用率仅占10%,剩余90%光刻胶均被离心力甩出废弃,造成光刻胶使用的浪费及增加了工厂对光刻胶的收集管控,同时因光刻胶属于大分子有机溶剂,其处理难度相当大。鉴于以上因素,光刻胶重复使用意义重大,但光刻胶在重复使用前需进行精密过滤方可使用,现有的过滤装置难以满足使用要求。

实用新型内容

为了解决现有技术的不足,本实用新型提出了一种光刻胶过滤装置。

其采用如下技术方案:

一种光刻胶过滤装置,包括密闭的过滤罐,过滤罐内设有精密过滤芯,所述过滤罐的顶端设有进料口,进料口上加装有进料阀门,所述进料口一侧设有进气管路,另一侧设有排气口,所述过滤罐的顶端设有出料口。

所述进料口为U形进料口。

所述进料口上加装有进料阀门。

所述进气管路的进气口设有进气阀门和压力表。

所述进气口进气压力为0.2mpa。

所述排气口上设有排气阀门。

所述出料口上设有出料阀门。

所述出料口连接光刻胶容器。

所述精密过滤芯为聚四氟乙烯滤芯,精度0.45um。

采用如上技术方案取得的有益技术效果为:

封闭罐体内形成内部压力,促使光刻胶在精密过滤芯内向下流动,从而达到过滤效果,主要去除原光刻胶内硅片碎渣及其他异物,使光刻胶满足重复使用的要求。

附图说明

图1为光刻胶过滤装置结构示意图。

图中,1、进料口,2、压力表,3、进气阀门,4、进气管路,5、进料阀门,6、排气口,7、排气阀门,8、过滤罐,9、精密过滤芯,10、出料口,11、出料阀门。

具体实施方式

结合附图1对本实用新型的具体实施方式做进一步说明:

一种光刻胶过滤装置,包括密闭的过滤罐8,过滤罐内设有精密过滤芯9,所述过滤罐的顶端设有进料口,进料口1上加装有进料阀门5,所述进料口一侧设有进气管路4,另一侧设有排气口6,所述过滤罐的顶端设有出料口10。

所述进料口为U形进料口,方便进料。所述进料口上加装有进料阀门,进料阀门控制进料。

所述进气口设有进气阀门3和压力表2。所述进气口进气压力为0.2mpa,封闭罐体内形成内部压力,促使光刻胶在精密过滤芯内向下流动。

所述排气口上设有排气阀门7,用于平衡罐内压力。

所述出料口上设有出料阀门11。所述出料口连接光刻胶容器。

进气阀门、排气阀门、进料阀门、出料阀门均是手动控制阀门,阀门把手横向为关,纵向为开。

或者,进气阀门、排气阀门、进料阀门、出料阀门均是电磁阀门,电磁阀门连接控制电路,能够统一控制各阀门的开闭。

精密过滤芯为聚四氟乙烯滤芯,精度0.45um,光刻胶具有一定粘度,450cp,属于大分子有机脂类,主要将回收的光刻胶中的硅片碎渣杂质过滤。

过滤后的光刻胶清澈透明无杂质,符合再次粘度。但过滤后的光刻胶还需进行配制使用,以保证产品性能。

关闭出料阀门11、进气阀门3,打开进料阀门5、排气阀门7,光刻胶自进料口1倒入进入过滤罐8,在过滤罐中流经精密过滤芯9,待倒入结束,关闭进料阀门5、排气阀门7,打开进气阀门3,将压力表2设定至0.2mpa,通气2分钟,封闭罐体内形成内部压力,促使光刻胶在精密过滤芯9内向下流动,从而达到过滤效果,主要去除原光刻胶内硅片碎渣及其他异物。

取料时,先将排气阀门6打开,再打开出料阀门11,过滤后的光刻胶自出料口10流出接入容器内。

当然,以上说明仅仅为本实用新型的较佳实施例,本实用新型并不限于列举上述实施例,应当说明的是,任何熟悉本领域的技术人员在本说明书的指导下,所做出的所有等同替代、明显变形形式,均落在本说明书的实质范围之内,理应受到本实用新型的保护。

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