[发明专利]用于大面积玻璃磁控溅射镀膜生产线的传送装置在审

专利信息
申请号: 201711321570.0 申请日: 2017-12-12
公开(公告)号: CN109912228A 公开(公告)日: 2019-06-21
发明(设计)人: 祝海生;黄乐;陈立;凌云;黄夏;孙桂红;黄国兴 申请(专利权)人: 湘潭宏大真空技术股份有限公司
主分类号: C03C17/23 分类号: C03C17/23;C23C14/35
代理公司: 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 代理人: 冯子玲
地址: 411100 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 大面积玻璃 固定架 磁控溅射镀膜 传送带 传送装置 安装架 玻璃基片 成对设置 间隔布置 卡紧 腔室 载具 架设 传送
【说明书】:

发明公开一种用于大面积玻璃磁控溅射镀膜生产线的传送装置,包括载具、固定架、安装架以及多个传送带,所述生产线的每个腔室均设有一个传送带,所述固定架固定安装于传送带上,所述固定架设有四个,成对设置,两个固定架之间间隔布置,所述载具固定于安装架上,所述安装架卡紧于两对固定架之间。本发明的用于大面积玻璃磁控溅射镀膜生产线的传送装置,能够稳定的传送大面积的玻璃基片,并且适用于各种尺寸的大面积玻璃基片。

技术领域

本发明涉及玻璃镀膜技术领域,尤其涉及一种用于大面积玻璃磁控溅射镀膜生产线的传送装置。

背景技术

目前市场上的透明导电薄膜主要有ITO(In2O3:Sn)、FTO(SnO2:F)、AZO(ZnO:Al)三种。各自有自己的优缺点,如ITO电阻率比较低,成本较高;FTO成本较低,成膜温度高,氢等离子体环境稳定性差;AZO在氢等离子体环境中稳定性好,成本低廉,电学性能不如ITO。不同吸收层的薄膜太阳能电池需选择适合的透明导电薄膜,以获得最佳界面效果。掺铝氧化锌(AZO)薄膜以其优异的导电性能、可见光透过性能、良好的氢等离子体稳定性能、以及价格低廉、资源丰富等优点将可能成为非晶硅/微晶硅薄膜太阳能电池、CIGS薄膜太阳能电池的透明导电薄膜材料。

TCO薄膜具有禁带宽、可见光谱区光透射率高和电阻率低等共同光电特性,在太阳能电池、平面显示、特殊功能窗口涂层及其他光电器件领域具有广阔的应用前景。TCO薄膜制造成本低于ITO、无毒、易光刻加工、在氢气氛中的化学稳定性比ITO膜好,有可能替代ITO产品,尤其在太阳能电池透明电极领域。而20世纪80年代兴起的ZnO:Al(简称AZO)透明导电薄膜中的Zn源价格便宜(有关金属材料的市场价格以每千克人民币元计算大致是:铝15.2、锌14.4、锡152、铟3200),来源丰富,无毒,并且在氢等离子体中稳定性要优于ITO薄膜,同时具有可与ITO薄膜相比拟的光电特性。所以,AZO薄膜目前己成为TCO薄膜领域的研究热点并广为应用。

为了获得可见光谱区透射率高、电导率高、性能稳定、附着性好、能符合不同用途不同要求的高质量的AZO膜,国内外已经研发出多种AZO薄膜的制备技术来调控和改善材料的性能。各种技术虽然各具特点但都致力于完善薄膜性能、降低反应温度、提高控制精度、简化制备成本和适应大规模生产。

溅射是利用荷能粒子轰击固体靶材,使靶材原子或分子被溅射出来并沉积到衬底表面的一种工艺。靶材可选用金属靶和陶瓷靶。磁控溅射制备法具有沉积速率高、基片温度低、成膜黏附性好、易控制、成本低、适合大面积制膜的优点,仍是目前研究最多、最成熟、应用最广泛的AZO薄膜制备技术。

溅镀机现已成为薄膜制作工艺中不可或缺的一部分。目前普通型溅镀机由于内部结构单一,通常需要较长时间才能达到产品要求镀膜厚度;同时由于其真空度不高,产品在溅射镀膜加工过程中难以保持高真空状态,镀膜稳定性较差,镀膜纯度低。此外,现有的溅镀机不适用于大面积的玻璃镀膜。

发明内容

本发明要解决的技术问题就在于:针对现有技术存在的技术问题,本发明提供一种用于大面积玻璃磁控溅射镀膜生产线的传送装置,能够稳定的传送大面积的玻璃基片,并且适用于各种尺寸的大面积玻璃基片。

为解决上述技术问题,本发明提出的技术方案为:

一种用于大面积玻璃磁控溅射镀膜生产线的传送装置,包括载具、固定架、安装架以及多个传送带,所述生产线的每个腔室均设有一个传送带,所述固定架固定安装于传送带上,所述固定架设有四个,成对设置,两个固定架之间间隔布置,所述载具固定于安装架上,所述安装架卡紧于两对固定架之间。

作为上述技术方案的进一步改进:

其中一对所述固定架之间固定设有限位杆。

所述限位杆设有缓冲垫。

所述两对固定架之间的最小距离小于安装架的长度。

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