[发明专利]显影液的浓度管理装置以及基板的显影处理系统

权利要求书

1.一种显影液的浓度管理装置，其中，

所述显影液的浓度管理装置具备：

测定机构，其对与反复使用且显现碱性的显影液的成分浓度具有关联的所述显影液的多个特性值进行测定；

运算机构，其基于由所述测定机构测定出的所述多个特性值并利用多变量解析法来计算所述显影液的成分浓度；

控制机构，其基于由所述运算机构算出的显影液的成分浓度值，以使所述显影液的成分浓度成为规定的管理值或者规定的管理值以下的方式向所述显影液供给补充液；以及

累计流量计，其计测由所述控制机构供给的补充液的累计流量。

2.一种显影液的浓度管理装置，其中，

所述显影液的浓度管理装置具备：

密度仪；

控制机构，其基于由所述密度仪测定出的显现碱性的显影液的密度，根据所述显影液的密度与吸收二氧化碳浓度之间的对应关系，以使所述显影液的吸收二氧化碳浓度成为规定的管理值或者规定的管理值以下的方式向所述显影液供给补充液；以及

累计流量计，其计测由所述控制机构供给的补充液的累计流量。

3.一种显影液的浓度管理装置，其中，

所述显影液的浓度管理装置具备：

测定机构，其对反复使用且显现碱性的显影液的导电率、溶解光致抗蚀剂浓度以及吸收二氧化碳浓度进行测定；

控制机构，其具备数据存储部以及控制部，所述数据存储部存储有导电率数据，该导电率数据按照以所述溶解光致抗蚀剂浓度以及吸收二氧化碳浓度为指标而确定的浓度区域，具有预先确认了实现规定的显影性能的所述显影液的导电率值，所述控制部将存储于所述数据存储部的所述导电率数据中的、根据由所述测定机构测定出的所述显影液的溶解光致抗蚀剂浓度以及吸收二氧化碳浓度的测定值而确定的浓度区域的导电率值作为控制目标值，以使所述显影液的导电率成为所述控制目标值的方式向所述显影液供给补充液；以及

累计流量计，其计测由所述控制机构供给的补充液的累计流量。

4.一种基板的显影处理系统，其中，

所述基板的显影处理系统具备：

显影处理装置，其使用显影液对基板进行处理；

显影液的浓度管理装置，其管理在所述显影处理装置中反复使用的所述显影液的浓度；

配管，其与所述显影处理装置连接，将由所述浓度管理装置向所述显影液供给的补充液输送至所述显影处理装置；以及

累计流量计，其设于所述配管，

所述浓度管理装置具备：

测定机构，其测定与所述显影液的成分浓度具有关联的多个特性值；

运算机构，其基于由所述测定机构测定出的所述多个特性值并利用多变量解析法来计算所述显影液的成分浓度；以及

控制机构，其基于由所述运算机构算出的显影液的成分浓度值，以使所述显影液的成分浓度成为规定的管理值或者规定的管理值以下的方式向所述显影液供给补充液。

5.根据权利要求4所述的基板的显影处理系统，其中，

所述基板的显影处理系统还具备：

显影液的调制装置，其将所述显影液调制为新液；以及

新液用配管，其与所述显影处理装置以及所述调制装置连接，通过所述浓度管理装置向在所述显影处理装置中反复使用的显影液供给由所述调制装置调制出的所述新液，

在所述新液用配管中配备有累计流量计。

6.根据权利要求4所述的基板的显影处理系统，其中，

所述基板的显影处理系统还具备：

显影液的再生装置，其将在所述显影处理装置中使用后的所述显影液再生为能够再利用的再生液；以及

再生液用配管，其与所述显影处理装置以及所述再生装置连接，通过所述浓度管理装置向在所述显影处理装置中反复使用的显影液供给由所述再生装置再生的所述再生液，

在所述再生液用配管中配备有累计流量计。