[发明专利]用于增强二氧化钛（TiO2

权利要求书

1.一种光催化体系，包含：

涂覆在基底上的成核材料，其中，所述成核材料包含氧化铝，并且所述氧化铝包含θ-Al₂O₃相，所述θ-Al₂O₃相具有晶格参数为a= 1.185 nm、b = 0.295 nm且c= 0.562 nm的单斜晶系空间群，并且其中，所述成核材料具有小于或等于10 nm的平均厚度；以及

沉积在所述成核材料上方的包含锐钛矿相二氧化钛的光催化活性材料，

其中，所述光催化体系的光催化活性比其中所述光催化活性材料直接设置在所述基底上的比较光催化活性高大于或等于50％。

2.根据权利要求1所述的光催化体系，其中，在所述成核材料与所述光催化活性材料之间的晶格失配小于或等于12%。

3.根据权利要求1所述的光催化体系，其中，所述活性材料包含按体积计大于或等于50%的锐钛矿相。

4.根据权利要求1所述的光催化体系，其中，所述光催化体系的光催化活性比其中所述活性材料直接设置在所述基底上的比较光催化活性高大于或等于75％。

5.一种自清洁光催化体系，包含：

基底；

设置在所述基底上的厚度小于或等于10 nm的包含氧化铝的成核涂层，其中所述氧化铝包含θ-Al₂O₃相，所述θ-Al₂O₃相具有晶格参数为a= 1.185 nm、b = 0.295 nm且c= 0.562nm的单斜晶系空间群；以及

包含光催化活性材料的暴露表面，所述光催化活性材料包含沉积在所述成核涂层上方的锐钛矿相二氧化钛，其中，当存在水和紫外线辐射时，所述光催化活性材料有助于在所述暴露表面上的任何有机残留物的分解反应。

6.根据权利要求5所述的自清洁光催化体系，其中，所述自清洁光催化体系的光催化活性比其中所述光催化活性材料直接设置在所述基底上的比较光催化活性高大于或等于50％，并且所述成核涂层具有大于或等于3 nm至小于或等于5 nm的平均厚度。