[发明专利]蒸镀装置及蒸镀方法有效
| 申请号： | 201711176490.0 | 申请日： | 2017-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN107815649B | 公开（公告）日： | 2019-08-02 |
| 发明（设计）人： | 杨成发;尹志;王琦;黄俊杰 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/50;C23C14/04 |
| 代理公司： | 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 | 代理人： | 郭栋梁 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 蒸镀基板 电磁铁单元 吸附 载具 褶皱 金属掩膜板 电磁模块 蒸镀装置 蒸镀 开关控制 申请 通电 承载 图案 释放 | ||
【权利要求书】：
1.一种蒸镀装置，包括蒸镀基板载具，所述蒸镀基板载具用于承载蒸镀基板，其特征在于，所述蒸镀基板载具上蒸镀基板所在的区域上方设置电磁模块，所述电磁模块包括多个电磁铁单元，所述多个电磁铁单元用于按照预定的顺序进行通电；
还包括金属掩膜板载具，用于承载金属掩膜板，所述金属掩膜板包括蒸镀有效区，所述蒸镀有效区正上方的多个电磁铁单元用于由中心向四周顺次导通吸附所述金属掩膜板。
2.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述蒸镀基板载具上蒸镀基板所在的区域上方设有冷却板，所述电磁模块设置在所述冷却板内或者设置在所述冷却板上方。
3.根据权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于，多个所述电磁铁单元呈矩阵阵列分布或者环形阵列分布。
4.根据权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于，还包括蒸镀腔室，所述蒸镀基板载具和所述金属掩膜板载具设置在所述蒸镀腔室内，所述蒸镀基板载具设置在所述金属掩膜板载具正上方；
所述蒸镀腔室内设有蒸镀源，所述蒸镀源设置在所述金属掩膜板载具正下方。
5.根据权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于，所述金属掩膜板为可磁性吸附板。
6.一种蒸镀方法，其特征在于，采用如权利要求1-5任一所述的蒸镀装置进行蒸镀。
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