[发明专利]一种功能层开孔的方法、阵列基板以及显示装置

权利要求书

1.一种功能层开孔的方法，其特征在于，包括：

在所述功能层上涂布光阻层；

在所述光阻层上至少形成一类贯穿区；其中，所述贯穿区为所述光阻层上暴露所述功能层的区域；其中，所述在所述光阻层上至少形成一类贯穿区，包括：采用第一张光罩在所述光阻层上经过曝光显影形成第一贯穿区；其中，所述第一张光罩包括第一透光孔，所述第一透光孔对应所述第一贯穿区；

对所述功能层进行第一次刻蚀，以在对应所述第一贯穿区的所述功能层上形成第一过孔；

在所述光阻层上形成新一类的贯穿区；其中，所述在所述光阻层上形成新一类的贯穿区，包括：采用第二张光罩在所述光阻层上经过曝光显影形成第二贯穿区，并增加所述第一贯穿区的宽度；其中，所述第二张光罩包括第二透光孔和第三透光孔，所述第二透光孔对应所述第一贯穿区，所述第三透光孔对应所述第二贯穿区，所述第二透光孔和所述第三透光孔的宽度依次递减，所述第二透光孔的宽度大于所述第一透光孔；

对所述功能层进行第二次刻蚀，以在对应所述第二贯穿区的所述功能层上形成第二过孔，并使所述第一过孔的宽度和深度增大；

采用第三张光罩在所述光阻层上经过曝光显影形成第三贯穿区，并增加所述第一贯穿区和所述第二贯穿区的宽度；其中，所述第三张光罩包括第四透光孔、第五透光孔和第六透光孔，所述第四透光孔对应所述第一贯穿区，所述第五透光孔对应所述第二贯穿区，所述第六透光孔对应所述第三贯穿区，所述第四透光孔、所述第五透光孔和所述第六透光孔的宽度依次递减，所述第四透光孔的宽度大于所述第二透光孔，所述第五透光孔的宽度大于所述第三透光孔；

对所述功能层进行第三次刻蚀，以在对应所述第三贯穿区的所述功能层上形成第三过孔，并使所述第一过孔以及所述第二过孔的宽度和深度增大，以形成宽度和深度不同的三个过孔。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，

所述功能层为显示装置中的阵列基板中的绝缘层。