[发明专利]一种基于BIM的构件抹光方法及装置

权利要求书

1.一种基于BIM的构件抹光方法，其特征在于，包括：

接收并解析待抹光构件的BIM三维模型，获取所述待抹光构件的构件形状信息；

根据所述构件形状信息，编制抹光路径；

根据所述抹光路径，对所述待抹光构件执行抹光操作；

扫描所述待抹光构件，当运行至所述待抹光构件的出筋突起部分时，利用预设规避方法，规避所述出筋突起部分。

2.如权利要求1所述的构件抹光方法，其特征在于，所述扫描所述待抹光构件，当运行至所述待抹光构件的出筋突起部分时，利用预设规避方法，规避所述出筋突起部分包括：

扫描所述待抹光构件，当运行至所述待抹光构件的出筋突起部分时，利用提升规避方法，规避所述出筋突起部分。

3.如权利要求1所述的构件抹光方法，其特征在于，所述扫描所述待抹光构件，当运行至所述待抹光构件的出筋突起部分时，利用预设规避方法，规避所述出筋突起部分包括：

扫描所述待抹光构件，当运行至所述待抹光构件的出筋突起部分时，利用旋转偏移规避方法，规避所述出筋突起部分。

4.如权利要求1至3任一项所述的构件抹光方法，其特征在于，所述根据所述抹光路径，对所述待抹光构件执行抹光操作包括：

利用图像识别设备，识别所述待抹光构件的构件起点和构件走向；

根据所述抹光路径、所述构件起点及所述构件走向，对所述待抹光构件执行抹光操作。

5.一种基于BIM的构件抹光装置，其特征在于，包括：

获取模块，用于接收并解析待抹光构件的BIM三维模型，获取所述待抹光构件的构件形状信息；

编制模块，用于根据所述构件形状信息，编制抹光路径；

抹光模块，用于根据所述抹光路径，对所述待抹光构件执行抹光操作；

规避模块，用于扫描所述待抹光构件，当运行至所述待抹光构件的出筋突起部分时，利用预设规避方法，规避所述出筋突起部分。

6.如权利要求5所述的构件抹光装置，其特征在于，所述规避模块包括：

提升规避单元，用于当扫描所述待抹光构件，当运行至所述待抹光构件的出筋突起部分时，利用提升规避方法，规避所述出筋突起部分。

7.如权利要求5所述的构件抹光装置，其特征在于，所述规避模块包括：

旋转偏移规避单元，用于扫描所述待抹光构件，当运行至所述待抹光构件的出筋突起部分时，利用旋转偏移规避方法，规避所述出筋突起部分。

8.如权利要求5至7任一项所述的构件抹光装置，其特征在于，所述抹光模块包括：

识别单元，用于利用图像识别设备，识别所述待抹光构件的构件起点和构件走向；

抹光单元，用于根据所述抹光路径、所述构件起点及所述构件走向，对所述待抹光构件执行抹光操作。