[发明专利]一种调整装置及清洗机

权利要求书

1.一种调整装置，用于调整硅片之间的间隙，其特征在于，包括：

多个承载台，每个所述承载台用于承载单个硅片；以及

旋转件，所有的所述承载台沿着所述旋转件的轴向分布，且所述旋转件用于驱动所有所述承载台沿所述旋转件的轴向移动；

第一导向件，所述第一导向件用于引导每个所述承载台沿所述旋转件的轴向移动；每个所述承载台具有一滑块，所述旋转件的外周面上开设有至少两条螺旋滑槽，每条螺旋滑槽与每个所述滑块滑动连接。

2.如权利要求1所述的调整装置，其特征在于，每条所述螺旋滑槽的旋向均相同，且相邻的所述螺旋滑槽的螺距依次增大或者减小。

3.如权利要求1所述的调整装置，其特征在于，一部分的所述螺旋滑槽的旋向为左旋，另一部分的所述螺旋滑槽的旋向为右旋，且旋向为左旋的所述螺旋滑槽相互邻近，旋向为右旋的所述螺旋滑槽相互邻近。

4.如权利要求3所述的调整装置，其特征在于，相邻的旋向为左旋的所述螺旋滑槽的螺距依次增大或者减小，且所有的旋向为左旋的所述螺旋滑槽与所有的旋向为右旋的所述螺旋滑槽相互对称。

5.如权利要求1所述的调整装置，其特征在于，所述旋转件的外周面上具有至少两条螺纹，每条螺纹与每个所述承载台螺纹连接。

6.如权利要求5所述的调整装置，其特征在于，每条所述螺纹的旋向均相同，且相邻的所述螺纹的螺距依次增大或者减小。

7.如权利要求5所述的调整装置，其特征在于，一部分的所述螺纹的旋向为左旋，另一部分的所述螺纹的旋向为右旋，且旋向为左旋的所述螺纹相互邻近，旋向为右旋的所螺纹相互邻近。

8.如权利要求7所述的调整装置，其特征在于，相邻的旋向为左旋的所述螺纹的螺距依次增大或者减小，且所有的旋向为左旋的所述螺纹与所有的旋向为右旋的所述螺纹相互对称。

9.如权利要求5所述的调整装置，其特征在于，还包括一第二导向件，所述第二导向件用于引导每个所述承载台沿所述旋转件的轴向移动。

10.如权利要求1至9任一项所述的调整装置，其特征在于，所述旋转件用于驱动每个所述承载台沿同一直线等间距散开或者聚拢。

11.如权利要求1至9任一项所述的调整装置，其特征在于，还包括驱动件，所述驱动件用于驱动所述旋转件转动。

12.一种清洗机，用于清洗硅片，其特征在于，包括如权利要求1至11任一项所述的调整装置。

13.如权利要求12所述的清洗机，其特征在于，所述清洗机包括用于调整硅片放置方向的翻转装置，所述调整装置固定设置在所述翻转装置上。