[发明专利]高读出电流的非挥发铁电存储器及其操作方法有效
申请号: | 201710362281.9 | 申请日: | 2017-05-22 |
公开(公告)号: | CN107230676B | 公开(公告)日: | 2020-05-26 |
发明(设计)人: | 江安全;郭会珍;张岩;白子龙 | 申请(专利权)人: | 复旦大学 |
主分类号: | H01L27/11507 | 分类号: | H01L27/11507 |
代理公司: | 上海正旦专利代理有限公司 31200 | 代理人: | 陆飞;陆尤 |
地址: | 200433 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 读出 电流 挥发 存储器 及其 操作方法 | ||
1.一种面内电容器结构的非挥发铁电存储器,其特征在于,包括:
基底材料(100);
铁电薄膜层(104);
铁电薄膜层(104)表面刻蚀的长条形铁电单元(103);
以及左电极(101)和右电极(102);
所述铁电薄膜层(104)是面内极化的薄膜,铁电极化有两个方向,这两种极化方向平行于薄膜表面并且方向相反,刻蚀的长条铁电单元(103)垂直于面内极化方向;左电极(101)和右电极(102)为读写电极对,左电极(101)和右电极(102)分别由N个叉指电极组成,称为左电极(101)的分支电极(1011-101N)和右电极(102)的分支电极(1021-102N),两组分支电极一一对应,形成小的电极对,N大于等于1小于等于100;所述左电极(101)的分支电极1011-101N和右电极(102)的分支电极1021-102N的N个分支连接在一起组成一个存储bit,N个分支对所对应的存储单元(105)在长条形铁电单元(103)上。
2.如权利要求1所述的面内电容器结构的非挥发铁电存储器,其特征在于,所述长条铁电单元(103)的宽度为d,d大于或等于5nm,小于或等于1um,长条铁电单元(103)的高度为h,h大于或等于5nm,小于或等于300nm。
3.如权利要求1所述的面内电容器结构的非挥发铁电存储器,其特征在于,每一个分支的电极宽度为w,w大于或等于5nm,小于或等于1um,两个分支之间的间距g大于或等于10nm,小于或等于500nm,左电极(101)和右电极(102)的厚度与所述的长条铁电单元(103)高度相同,均为h,h大于或等于5nm,小于或等于300nm。
4.如权利要求1所述的非挥发铁电存储器,其特征在于,所述铁电薄膜层材料选自离子掺杂改性的铁酸铋BiFeO3、锆钛酸铅(Pb,Zr)TiO3、铌酸锂LiNbO3、钽酸锂LiTaO3。
5.如权利要求1所述的非挥发铁电存储器,其特征在于,所述基底材料选自Si、SiO2或LiNbO3、SrTiO3。
6.一种如权利要求1所述的面内电容器结构的非挥发铁电存储器的操作方法,其特征在于:
在写操作时,在所述左电极(101)和右电极(102)之间偏置一写电压信号,使所述左电极(101)分支电极和右电极(102)分支电极所对的铁电存储单元(105)极化方向发生反转或不反转,去除写电压后并保持加电压时的极化状态,从而存储信息“1”或“0”;所述写电压的大小随所述的长条铁电单元(103)的宽度d的增大而增大;
在读操作时,在所述左电极(101)和右电极(102)之间偏置一读电压信号,读电压信号小于铁电材料的矫顽电压,也小于所述写电压,即不能使铁电材料发生反转,根据每一个存储单元(105)的极化方向是否与铁电薄膜层(104)以及刻蚀的长条铁电单元(103)且除去存储单元(105)部分的极化方向相反,是否在存储单元(105)与铁电薄膜层(104)以及刻蚀的长条铁电单元(103)且除去存储单元(105)部分的接触面上形成导电通道(106),加一读电压是否读到电流信号来判断存储信息。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
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