[发明专利]天线、包括天线的微波等离子体源、和等离子体处理装置有效

专利信息
申请号: 201710340216.6 申请日: 2017-05-15
公开(公告)号: CN107454732B 公开(公告)日: 2021-01-26
发明(设计)人: 李永光;朴龙均;李东洙;李尚宪 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H05H1/46 分类号: H05H1/46;H01Q1/22;H01Q7/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 翟然
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 天线 包括 微波 等离子体 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种天线,包括:

具有多个输出狭缝的下环;

设置在所述下环上的上环,所述上环具有输入狭缝;以及

形成在所述下环和所述上环之间的空腔,

其中所述输入狭缝配置为从所述上环的外部接收具有输入频率的微波功率,

其中所述多个输出狭缝配置为从所述空腔传送具有谐振频率的所述微波功率到所述下环的外部,

其中所述输出狭缝沿着所述下环的方位角方向以25.7度的第一方位角的间隔布置,

其中所述输入狭缝设置在所述多个输出狭缝中最接近所述输入狭缝的两个输出狭缝之间,并且所述输入狭缝比所述多个输出狭缝中最接近的所述两个输出狭缝中的一个不对称地更靠近另一个,

其中所述输入狭缝设置在以下位置:与最接近所述输入狭缝的所述两个输出狭缝中的一个形成6.45度的第二方位角并且与最接近所述输入狭缝的所述两个输出狭缝中的另一个形成19.25度的第三方位角,以使所述谐振频率与所述输入频率相等。

2.如权利要求1所述的天线,其中所述输出狭缝彼此间隔开并且在所述下环中布置在方位角方向上,

其中所述下环配置为沿着所述上环旋转,并且

其中所述输出狭缝配置为关于所述上环在所述方位角方向上移动,

其中所述方位角方向在平行于所述下环的表面的基准面上,并且所述方位角方向具有位于所述下环的中心处的起点。

3.如权利要求1所述的天线,

其中所述方位角方向在平行于所述下环的表面的基准面上,并且所述方位角方向具有位于所述下环的中心处的起点。

4.如权利要求1所述的天线,其中所述上环包括:

设置在所述下环上的盖环;以及

设置在所述盖环的侧壁的一部分处的狭缝板,所述狭缝板具有所述输入狭缝。

5.如权利要求4所述的天线,其中所述盖环具有接收所述狭缝板的一部分的孔。

6.如权利要求1所述的天线,其中所述输入狭缝和所述空腔之间的第一边界面在不同于所述空腔和所述输出狭缝之间的第二边界面延伸的方向的方向上延伸。

7.如权利要求1所述的天线,其中每个所述输出狭缝具有与所述输入狭缝相同的尺寸。

8.如权利要求1所述的天线,其中所述下环的宽度等于所述上环的宽度。

9.如权利要求1所述的天线,其中所述输入狭缝设置在所述上环的外侧壁处。

10.如权利要求1所述的天线,其中所述天线包括环形天线。

11.一种微波等离子体源,包括:

天线;

微波发生器,配置为提供具有输入频率的微波功率到所述天线;以及

波导,将所述微波发生器连接到所述天线,

其中所述天线包括:

具有多个第一狭缝的下环;

设置在所述下环上的上环,所述上环具有配置为从所述波导传送所述微波功率到所述下环上的第二狭缝;以及

空腔,形成在所述下环和所述上环之间,

其中所述多个第一狭缝配置为从所述空腔传送具有谐振频率的所述微波功率到所述下环的外部,

其中所述多个第一狭缝沿着所述下环的方位角方向以25.7度的第一方位角的间隔布置,

其中所述第二狭缝设置在所述多个第一狭缝中最接近所述第二狭缝的两个第一狭缝之间,并且所述第二狭缝比所述多个第一狭缝中最接近的所述两个第一狭缝中的一个不对称地更靠近另一个,

其中所述第二狭缝设置在以下位置:与最接近所述第二狭缝的所述两个第一狭缝中的一个形成6.45度的第二方位角并且与最接近所述第二狭缝的所述两个第一狭缝中的另一个形成19.25度的第三方位角,以使所述谐振频率与所述输入频率相等。

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