[发明专利]一种低温真空镀膜方法

说明书

本发明公开了一种低温真空镀膜方法，对基底材料进行清洁；将清洁后的基底材料放入真空蒸发室中，采用惰性气体作为清洁源对基底材料进行再清洁；采用低熔点靶材，在真空度为10^‑5～10^‑4Pa，反应压力为0.4MPa～0.8MPa，反应距离为7cm～10cm，靶材温度为150℃～400℃，蒸发速率为1.2g/m³·s～1.8g/m³·s，基底温度为110℃～150℃的条件下对基底材料进行真空蒸发镀膜处理；采用紫外线对经处理的基底材料进行光固化处理。本发明采用的低温真空镀膜方法在较低温度条件下实现对各种高分子基材进行镀膜，可充分满足实际需求。

技术领域

本发明涉及真空蒸发法的镀覆领域，具体涉及一种低温真空镀膜方法。

背景技术

根据对基材表面进行技术处理时具体反应形式和过程的不同，可以分为物理气相沉积法和化学气相沉积法两大镀膜方法。而采用真空蒸发法镀膜属于常见的物理气相沉积镀膜方法之一。真空蒸镀法指在真空环境中，通过加热使金属等蒸发形成气相，使蒸发物质的原子以冷凝的方式逐步沉积在基材表面，从而完成对基材的表面镀膜处理。采用真空蒸镀法进行表面镀膜，具有较高的沉积速率，可以制备各种热稳定性好的单质薄膜和化合物薄膜。

采用真空蒸发法镀膜时，靶材处于较高温度，才能正靶材分子蒸镀至基材表面，形成镀膜。但是对于纺织品或者塑料制品等低熔点基材，高温度的靶材蒸镀到基材表面时，会破坏基材表面的完整性，易造成白点、坏点等缺陷，并且会对基材表面进行氧化，使基材表面镀膜发生性质改变。

中国专利CN201410107025.1公开了一种铝材真空镀膜工艺，该发明采用磁控溅射真空镀膜技术对经过工艺处理的铝材表面进行钛铬合金镀膜处理，得到了具有耐磨耐腐蚀性的镀层。但是该专利对于镀膜靶材的实际使用率较低。

因此，需要一种在较低温度条件下实现对各种高分子基材进行镀膜的真空蒸镀技术，以充分满足实际需求。

发明内容

本发明针对上述问题，提供一种低温真空镀膜方法。

本发明解决上述问题所采用的技术方案是：一种低温真空镀膜方法，包括以下步骤：

步骤S1，对基底材料进行清洁；

步骤S2，将清洁后的基底材料放入真空蒸发室中，采用惰性气体作为清洁源，以1.2m/s～1.8m/s的流速对基底材料进行再清洁；

步骤S3，采用低熔点靶材，在真空度为10^-5～10^-4Pa，反应压力为0.4MPa～0.8MPa，反应距离为7cm～10cm，靶材温度为150℃～400℃，蒸发速率为1.2g/m³·s～1.8g/m³·s，基底温度为110℃～150℃的条件下对基底材料进行真空蒸发镀膜处理；

步骤S4，在60℃～80℃的温度条件下，采用紫外线对经步骤S3处理的基底材料进行光固化处理。

进一步地，步骤S1中，基底材料为：塑料或纺织品。

进一步地，步骤S1中，清洁具体为：先采用去离子水对基底材料进行超声波清洗30min～60min，再采用无水乙醇对经水清洗后的基底材料以0.2m/s～0.5m/s的流速进行冲洗，再进行真空烘干处理，得到清洁后的基底材料；

更进一步地，真空烘干处理具体为：在压力为0.6MPa～0.9MPa、温度为60℃～70℃的条件下进行烘干4h～8h。

进一步地，步骤S2中，再清洁的处理时间为：5min～20min。

进一步地，步骤S3中，低熔点靶材包括：铟合金、铅合金、锡合金、铝合金、铟单质、锡单质中的任一种。