[发明专利]反应腔室及外延生长设备

权利要求书

1.一种反应腔室，其特征在于，包括腔体和第一吹扫机构，其中，在所述腔体内设置有基座和旋转轴，所述基座与所述腔体的底部之间存在间隙；在所述腔体的底部设置有开口，所述旋转轴的上端与所述基座连接，所述旋转轴的下端竖直向下穿过所述开口；

所述第一吹扫机构用于通过所述开口向所述基座与所述腔体之间的间隙提供吹扫气体；并且，

所述第一吹扫机构包括环形部件、第一进气管路和第一吹扫气体源，其中，

所述环形部件环绕设置在所述旋转轴的外周，并与所述旋转轴形成环形空间；所述环形部件的上端与所述腔体的底部密封连接，所述开口位于所述环形部件上端的内侧；所述环形部件的下端设置有封堵部件，用以密封所述环形空间；

所述第一进气管路与所述环形空间连接；

所述第一吹扫气体源与所述第一进气管路连接，所述第一吹扫气体源通过所述第一进气管路向所述环形空间提供吹扫气体，进而向所述基座与所述腔体之间的间隙提供吹扫气体。

2.根据权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，所述封堵部件包括环绕设置在所述旋转轴的外周壁上的法兰，所述法兰的上端面与所述环形部件的下端面密封连接。

3.根据权利要求2所述的反应腔室，其特征在于，在所述法兰上设置有一个或者多个与所述环形空间相连通的第一进气口，且多个第一进气口沿所述旋转轴的周向对称分布；

所述第一进气管路的出气端的数量与所述第一进气口的数量相对应，且各个所述第一进气管路的出气端一一对应地与各个所述第一进气口连接。

4.根据权利要求1-3任意一项所述的反应腔室，其特征在于，在所述基座与所述旋转轴之间还设置有转接组件，在所述转接组件与所述基座之间具有间隙；

所述反应腔室还包括第二吹扫机构，所述第二吹扫机构用于向所述转接组件与所述基座之间的间隙提供吹扫气体。

5.根据权利要求4所述的反应腔室，其特征在于，所述第二吹扫机构包括轴向通道、第二进气管路和第二吹扫气体源，其中，

所述轴向通道沿所述旋转轴的轴向贯穿所述旋转轴和转接组件，所述轴向通道的上端延伸至所述转接组件的上端面；

所述第二进气管路与所述轴向通道连接；

所述第二吹扫气体源与所述第二进气管路连接；

所述第二吹扫气体源通过所述第二进气管路向所述轴向通道中提供吹扫气体，进而向所述转接组件与所述基座之间的间隙提供吹扫气体。

6.根据权利要求5所述的反应腔室，其特征在于，所述转接组件包括基座连接件和轴连接件，其中，

在所述基座的下表面，且与所述旋转轴相对应的位置处形成有凹部，所述基座连接件内嵌在所述凹部中，所述基座连接件设置有第一轴向中心孔；

所述轴连接件包括连为一体的固定部和连接部，其中，所述固定部自所述旋转轴的上表面内嵌在所述轴向通道位于所述旋转轴内的第一部分中；所述连接部内嵌在所述第一轴向中心孔中。

7.根据权利要求6所述的反应腔室，其特征在于，在所述轴连接件上设置有第二轴向中心孔，作为所述轴向通道的第二部分；

在所述基座连接件与所述基座的两个接触面中，在至少一个接触面上设置有沿所述旋转轴的周向均匀分布的多条径向凹槽。

8.根据权利要求5所述的反应腔室，其特征在于，在所述旋转轴的外周壁上，且靠近所述轴向通道的下端设置有一个或多个与所述轴向通道相连通的第二进气口，且多个第二进气口沿所述旋转轴的周向对称分布；

所述第二进气管路的出气端的数量与所述第二进气口的数量相对应，且各个所述第二进气管路的出气端一一对应地与各个所述第二进气口连接。

9.一种外延生长设备，其特征在于，包括权利要求1-8任意一项所述的反应腔室。