[发明专利]激光加工装置有效

专利信息
申请号: 201710130972.6 申请日: 2017-03-07
公开(公告)号: CN107186366B 公开(公告)日: 2020-10-27
发明(设计)人: 前田勉 申请(专利权)人: 株式会社迪思科
主分类号: B23K26/53 分类号: B23K26/53;B23K26/03;B23K26/08;B23K26/70
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 李辉;于靖帅
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 激光 加工 装置
【说明书】:

提供一种激光加工装置,能够对改质层的起点和终点的位置进行高精度地设定。激光加工装置的控制器包含:存储部,其对沿着晶片的分割预定线形成改质层的加工条件进行存储;以及加工预定线计算部,其将作为加工条件而存储的形成改质层的预定的位置作为加工预定线而显示在显示面板上。加工预定线计算部具有输出部,该输出部在第1分割预定线的起点或终点与第2分割预定线相连的区域使加工预定线与第1分割预定线重叠而显示在显示面板上。该激光加工装置中,允许在显示面板上将沿着第1分割预定线形成的第1改质层的起点或终点的位置进行重新设定,以使得不与沿着第2分割预定线形成的第2改质层干涉。

技术领域

本发明涉及激光加工装置。

背景技术

公知如下的加工方法:通过激光加工装置对形成有IC(Integrated Circuit:集成电路)等多个器件的半导体晶片(以下,简称为“晶片”)照射激光光线,沿着分割预定线形成改质层,从而以改质层为断裂起点将晶片分割成各个器件芯片。激光加工装置通过对激光光线的照射和照射停止进行切换而能够形成断续的改质层。因此,激光加工装置能够进行具有非连续的分割预定线的晶片的加工(例如,参照专利文献1、专利文献2)。

专利文献1:日本特开2010-123723号公报

专利文献2:日本特开2015-020177号公报

在晶片上配置有由交叉的多条分割预定线划分出的多个器件。当在沿着某条分割预定线的方向上伸长的改质层的起点或终点超过了在沿着交叉的分割预定线的方向上伸长的改质层时,具有如下课题:在使晶片断裂成各个器件芯片时,超过了在交叉的方向上伸长的改质层的改质层会使龟裂进展到器件区域而对器件进行分割。因此,需要高精度地设定激光光线的照射位置。

以往,将加工条件设定为对显示在显示单元上的分割预定线的中央附近照射激光光线。但是,即使在所设定的加工条件中产生以微米为单位的位置偏移,也会产生上述那样的课题,所以加工条件的设定作业较难。

并且,发现了如下情况:当将改质层的起点或终点置于从在交叉的方向上伸长的改质层稍微离开的位置时,具有激光光线的漏光不会到达器件区域而减少了使器件破损的可能性的效果。

这样,迫切期望对改质层的起点或终点的位置相对于在交叉的方向上伸长的改质层进行高精度地设定。

发明内容

本发明是鉴于上述情况而完成的,其目的在于提供一种激光加工装置,能够对改质层的起点和终点的位置进行高精度地设定。

为了解决上述的课题并达成目的,根据本发明,提供激光加工装置,对设定有沿第1方向伸长的第1分割预定线和沿与该第1方向垂直的方向伸长的第2分割预定线的晶片照射激光光线而在该晶片的内部形成沿着该第1分割预定线和该第2分割预定线的改质层,该晶片具有断续形成的该第1分割预定线的起点或终点与该第2分割预定线相连的区域,该激光加工装置的特征在于,具有:卡盘工作台,其利用保持面对该晶片进行保持;激光光线照射单元,其对该卡盘工作台所保持的该晶片照射对于该晶片具有透过性的波长的激光光线;移动单元,其使该卡盘工作台和该激光光线照射单元相对移动;显示单元,其对拍摄该卡盘工作台所保持的该晶片而得的图像进行显示;存储单元,其存储对该晶片进行加工的加工条件;以及加工预定线计算部,其将作为该加工条件而存储的形成该改质层的预定的位置作为加工预定线而显示在该显示单元上,该加工预定线计算部包含输出部,该输出部在该第1分割预定线的起点或终点与该第2分割预定线相连的区域使该加工预定线与该第1分割预定线重叠而显示在该显示单元上,该激光加工装置中,允许将沿着该第1分割预定线形成的第1改质层的起点或终点的位置进行重新设定,以使得不与沿着该第2分割预定线形成的第2改质层干涉。

根据本发明的激光加工装置,能够对改质层的起点和终点的位置进行高精度地设定。

附图说明

图1是示出实施方式的激光加工装置的立体图。

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