[发明专利]利用光不稳定过渡金属络合物的氧化还原可聚合牙科用组合物有效

专利信息
申请号: 201680064523.X 申请日: 2016-11-02
公开(公告)号: CN108348404B 公开(公告)日: 2021-06-08
发明(设计)人: W·H·莫泽;E·M·汤森;M·A·克洛普;R·E·贝灵;J·D·克拉珀 申请(专利权)人: 3M创新有限公司
主分类号: A61K6/887 分类号: A61K6/887;A61K6/80;A61K6/20;A61K6/30;A61K6/35;A61K6/54
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 李勇;徐一琨
地址: 美国明*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 利用 不稳定 过渡 金属 络合物 氧化 还原 聚合 牙科 组合
【权利要求书】:

1.一种牙科用组合物,其包含:

至少一种多官能单体,所述多官能单体包含至少两个烯属不饱和基团;以及

氧化还原引发体系,所述体系包含:

a)氧化剂

b)还原剂,和

c)具有以下化学式的光不稳定过渡金属络合物:

其中

R为光不稳定基团;

M+为参与氧化还原循环的过渡金属;

每个X1和X2独立地选自-N-、-S-和-O-;

每个X3和X4独立地选自-NR1-和-S-;

每个R1独立地选自:H、烷基、环烷基烷基、杂环烷基、芳基烷基、杂芳基烷基、烷氧基、卤素、甲酰基、羟基、酰基、芳氧基、烷硫基、氨基、烷基氨基、芳基烷基氨基、二取代的氨基、酰基氨基、酰氧基、酯、酰胺和羧基烷基;

每个相邻对的R1和R2可以独立地形成具有相应的杂原子X3和X4的杂环烷基或杂芳基基团;

每个R2、R3、R4、R5、R6和R7独立地选自:H、烷基、烯基、炔基、环烷基、环烷基烷基、环烷基烯基、环烷基炔基、杂环基、杂环烷基、杂环烯基、杂环炔基、芳基、芳基烷基、芳基烯基、芳基炔基、杂芳基、杂芳基烷基、杂芳基烯基、杂芳基炔基、烷氧基、卤素、巯基、叠氮基、氰基、甲酰基、羧酸、羧基烷基、羟基、硝基、酰基、芳氧基、烷硫基、氨基、烷基氨基、芳基烷基氨基、二取代的氨基、酰氨基、酰氧基、酯、酰胺、磺酰基、磺酰基、磺酸酯、磺酸、磺酰胺、脲、烷氧基酰氨基和氨基酰氧基;

条件是当R1和R2形成具有相应杂原子X3-X4的杂芳基基团时,R3不存在;

R4和R5可以一起形成氧代基;或者R6和R7可以一起形成氧代基;

x为1至2;并且y为1至3;或其盐。

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