[实用新型]一种光阻缓冲罐

说明书

技术领域

本实用新型涉及光阻供应装置技术领域，尤其涉及一种光阻缓冲罐。

背景技术

半导体制造工艺中通常需要在晶元上涂布光阻，由于大部分的光阻为液态，因此通常利用管路供应系统将光阻输送至一喷嘴，同时将晶元传送到位于喷嘴下方的工作位上，由喷嘴将光阻喷涂到晶元上。

图1示出了一种用于在半导体制造工艺中供应光阻的传统管路供应系统，该系统包括：一个存储光阻的光阻瓶(Resist bottle)1；一个光阻缓冲罐(L/E tank)2，该光阻缓冲罐2包括罐体3及设置在罐体3上的一上限探测器4和一下限探测器5，罐体3为类圆柱体，上限探测器4和下限探测器5固定于罐体3的内部上方和内部下方，定义光阻缓冲罐2的上限探测器4和下限探测器5之间的液面高度为标准高度，上限探测器4和下限探测器5均用于检测罐体3内的光阻的液面高度，当液面到达上限探测器4的位置时上限探测器4发信号给机台，机台报警，当液面到达下限探测器5时下限探测器5发信号给机台，机台报警；一个给水泵(Feed punp)6；一个过滤器(Filter)7，用于过滤光阻中的气泡等杂质；一个分配泵(Dispense pump)8，连接喷嘴9，喷嘴9下方是工作位，工作位上放置由机台传送过来的晶元10。

传统管路供应系统中，光阻缓冲罐2内的能够容置光阻的最大预设容量为标准容量，对应光阻缓冲罐内标准容量的光阻的液面最大高度为上述标准高度。上限探测器4位于液面最上方即设置在对应标准容量和标准高度的100％的位置，上述下限探测器位于液面最下方即设置在对应标准容量和标准高度的0％的位置。如果位于光阻缓冲罐2内部上方的上限探测器4被触发，机台会报警，此时光阻瓶1中的光阻用尽，提示该更换光阻瓶1中的光阻，机台会继续传送已经抽片的晶元10至工作位，同时暂停传送没有抽片的晶元10，等更换过光阻瓶1中的光阻后重新运行；如果位于光阻缓冲罐2内部下方的下限探测器5被触发，机台不仅暂停传送已经抽片的晶元10，同时暂停传送没有抽片的晶元10，并且此时光阻缓冲罐2中的气泡容易进入光阻管路中形成影响最终的注入或涂布效果。

一旦光阻瓶1中的光阻用尽，光阻缓冲罐2上的上限探测器4被触发，光阻瓶1中光阻报空而操作人员手边暂时没有可供应的光阻，那么只能暂停管路供应系统，等补充过光阻后再重新运行，这样不仅影响产品的正常生产，由于晶元10和光阻在生产线上的预留的生产时间有限，暂停生产也容易影响最终的产品效果。

实用新型内容

针对现有技术中存在的问题，本实用新型提供了一种能够有利于在光阻的管路供应系统中持续不间断供应光阻的光阻缓冲罐。

本实用新型采用如下技术方案：

一种光阻缓冲罐，所述光阻缓冲罐包括：

一罐体；

一移动探测装置，所述移动探测装置固定设置于所述罐体的内部；所述移动探测装置包括：

一滑动支架；

一上限探测器，所述上限探测器滑动设置于所述滑动支架上。

优选的，所述罐体的顶部设有与所述罐体连通的进液管。

优选的，所述罐体的顶部设有与所述罐体连通的排气管。

优选的，所述罐体的底部设有与所述罐体连通的出液管.

优选的，所述滑动支架包括：

纵向支架，所述纵向支架与所述光阻缓冲罐内的液面高度方向平行；

横向支架，所述横向支架滑动设置于所述纵向支架上，所述上限探测器连接在所述横向支架上；

固定装置，所述横向支架通过所述固定装置与所述纵向支架固定连接。

优选的，所述纵向支架沿所述光阻缓冲罐内的光阻的液面高度方向由上到下依照预设间隔距离依次设有与第一预设位置相对应的第一固定位、与第二预设位置相对应的第二固定位、与第三预设位置相对应的第三固定位以及与第四预设位置相对应的第四固定位。

优选的，所述光阻缓冲罐还包括：

一下限探测器，所述下限探测器固定设置于所述罐体内部下方的与第五预设位置相对应的第五固定位上。

优选的，所述第四预设位置与所述第五预设位置之间的距离和所述预设间隔距离相同。

优选的，所述第一预设位置对应所述光阻缓冲罐的标准容量的标准高度，所述第二预设位置对应所述标准高度的75％，所述第三预设位置对应所述标准高度的50％，所述第四预设位置对应所述标准高度的25％，所述第五预设位置对应所述标准高度的0％。

优选的，所述光阻缓冲罐的标准容量为200cc。