[发明专利]温度控制装置以及涡轮分子泵有效
申请号: | 201611191535.7 | 申请日: | 2016-12-21 |
公开(公告)号: | CN107191388B | 公开(公告)日: | 2021-06-18 |
发明(设计)人: | 小崎纯一郎 | 申请(专利权)人: | 株式会社岛津制作所 |
主分类号: | F04D19/04 | 分类号: | F04D19/04;F04D29/58;F04D27/00 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 日本京都府京都*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 温度 控制 装置 以及 涡轮 分子 | ||
1.一种温度控制装置,为涡轮分子泵的温度控制装置,所述涡轮分子泵包括:
定子,设置于泵基底部;
转子,相对于所述定子旋转驱动;
加热部,对所述泵基底部进行加热;
基底温度检测部,对所述泵基底部的温度进行检测;以及
转子温度检测部,检测相当于所述转子的温度的物理量即温度相当量;
所述温度控制装置的特征在于包括:
加热控制部,基于所述转子温度检测部的检测值来控制所述加热部对所述泵基底部的加热;以及
通知部,基于所述转子的温度由于反应生成物堆积而有上升倾向的关系、以及所述转子的温度的上升倾向与所述泵基底部的加热量减少的关系,在所述基底温度检测部的检测温度为规定阈值以下的情况下,发出与所述反应生成物堆积相关的警报。
2.根据权利要求1所述的温度控制装置,其特征在于:所述加热控制部以所述转子温度检测部的检测值为规定目标值的方式,控制所述加热部对所述泵基底部的加热。
3.根据权利要求1所述的温度控制装置,其特征在于:
以所述转子温度检测部的检测值为规定目标值的方式,控制所述加热部对所述泵基底部的加热。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的温度控制装置,其特征在于:所述转子温度检测部包括:
强磁性体靶材,设置于所述转子;以及
传感器,以相对于所述强磁性体靶材相向的方式配置,对所述强磁性体靶材的磁导率变化进行检测,基于所述强磁性体靶材的居里点附近的磁导率变化,检测所述转子的温度。
5.一种涡轮分子泵,其特征在于包括:
定子,设置于泵基底部;
转子,相对于所述定子旋转驱动;
加热部,对所述泵基底部进行加热;
基底温度检测部,对所述泵基底部的温度进行检测;
转子温度检测部,检测相当于所述转子的温度的物理量即温度相当量;以及
根据权利要求1至4中任一项所述的温度控制装置。
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