[发明专利]基于树回溯算法提高芯片验证覆盖率的方法在审

专利信息
申请号: 201611186591.1 申请日: 2016-12-20
公开(公告)号: CN106599498A 公开(公告)日: 2017-04-26
发明(设计)人: 薛炜澎;唐飞;陈轶昊 申请(专利权)人: 盛科网络(苏州)有限公司
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)32256 代理人: 王锋
地址: 215000 江苏省无锡市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 基于 回溯 算法 提高 芯片 验证 覆盖率 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及芯片验证技术领域,具体涉及一种基于树回溯算法提高芯片验证覆盖率的方法。

背景技术

随着芯片技术的发展,芯片的规模与复杂度越来越高,而验证将占据超过约70%的芯片开发时间,验证已经成为芯片开发中的瓶颈。针对该瓶颈,在当前的验证技术中普遍采用以覆盖率为导向的随机激励与定向激励相结合的验证方法。

传统的方法是通过人工分析代码的分支以及走向,再根据分支以及走向修改激励的约束,由于大规模的芯片设计代码量非常大,采用人工逐条的分析覆盖率中没有覆盖的代码,不仅花费大量的时间,而且不可避免的出现反复,也容易由于分析的错误导致工作量的增大。

发明内容

针对现有技术的不足,本发明的主要目的在于:提出一种基于树回溯算法提高芯片验证覆盖率的方法,通过该方法可加快芯片验证覆盖率的收敛速度,从而提高芯片验证覆盖率。

为实现前述目的,本发明公开了一种基于树回溯算法提高芯片验证覆盖率的方法,具体包括:

定义一棵逻辑树,每个待覆盖功能点为所述逻辑树上的一个节点;

选择一待覆盖点为起点,通过回溯算法获取从根节点到所述待覆盖点的路径;

根据所述路径获取验证所述待覆盖点需要的配置信息。

优选地,所述逻辑树根据芯片功能规格书定义。

优选地,根据所述配置信息生成相应的验证激励。

优选地,所述激励为定向激励。

与现有技术相比,本发明的优点在于:本发明公开的一种基于树回溯算法提高芯片验证覆盖率的方法,通过对芯片功能逻辑树的回溯实现生成覆盖某一节点配置信息的自动化,加快覆盖率的收敛过程,提高了以覆盖率为导向的验证效率。

附图说明

图1是本发明一实施例提出的基于树回溯算法覆盖某一节点生成配置信息的示意图;

图2是本发明一实施例提出的逻辑树示意图;

图3是本发明一实施例提出的以某待覆盖点为起点进行反溯的过程示意图;

图4是本发明一实施例提出的通过树回溯算法获取路径示意图。

具体实施方式

鉴于现有技术中的不足,本案发明人经长期研究和大量实践,得以提出本发明的技术方案。如下将对该技术方案、其实施过程及原理等作进一步的解释说明。

本发明提出一种基于树回溯算法提高芯片验证覆盖率的方法,根据芯片所实现的功能生成一棵逻辑树,每一个待覆盖点都是这棵逻辑树上的一个节点。通过树回溯算法得到从根节点到某一待覆盖点的路径信息,由此得到覆盖该点的配置信息。根据配置信息,可对该待覆盖点生成相应的约束激励,从而实现对该功能的芯片验证。采用本发明实施例所提出的方法,避免了验证人员对功能点验证逻辑的手动分析,加快了芯片验证覆盖率的收敛速度,从而提高芯片验证效率。

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。

图1是本发明一实施例提出的基于树回溯算法覆盖某一节点生成配置信息的方法示意图,如图1所示,通过逻辑树生成模块对芯片功能规格书进行解析可以得到该芯片对应的逻辑树,根据该逻辑树以某一个待覆盖节点为起点采用树回溯算法进行反溯,从而根据反溯得到的路径信息得到覆盖该点所需要的配置信息或配置文件,根据相关配置信息,便可对该待覆盖点进行验证相关操作。

图2~图4是本发明一实施例提出的基于逻辑树进行反溯以获取待覆盖点配置信息的示意图,如图2所示为根据芯片所实现的功能生成的一棵逻辑树,以待覆盖点8.4为例,将其设为起点,通过回溯算法依层次进行反溯直至到根节点,如图3所示,从而得到根节点1.1至节点8.4的路径“1.1→2.1→3.1→4.2→5.2→6.4→7.3→8.4”,如图4所示。根据此路径可获得覆盖节点8.4所需的配置信息,据此生成相应的定向激励,从而实现对该功能的芯片验证。

采用本发明实施例提出的一种基于树回溯算法提高芯片验证覆盖率的方法,通过对芯片功能逻辑树的回溯实现生成覆盖某一节点配置信息的自动化,避免人工分析的过程,从而加速芯片的验证进程。

应当理解,上述实施例仅为说明本发明的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本发明的内容并据以实施,并不能以此限制本发明的保护范围。凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰,都应涵盖在本发明的保护范围之内。

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