[发明专利]一种宽光谱太阳能吸收半导体及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201611151273.1 申请日: 2016-12-14
公开(公告)号: CN106784067A 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 陈平;张华;马学亮;王永存 申请(专利权)人: 上海电机学院
主分类号: H01L31/032 分类号: H01L31/032
代理公司: 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司31227 代理人: 余晨波
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 光谱 太阳能 吸收 半导体 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种宽光谱太阳能吸收半导体,其特征在于,所述半导体的化学分子式为CdIn2-xFexS4,式中0<x<2。

2.如权利要求1所述的一种宽光谱太阳能吸收半导体,其特征在于,所述半导体的母体半导体为CdIn2S4三元化合物,三元化合物CdIn2S4中的部分In原子被Fe原子取代形成半导体CdIn2-xFexS4

3.如权利要求1所述的一种宽光谱太阳能吸收半导体,其特征在于,半导体CdIn2-xFexS4中优化的Fe掺杂浓度在0%-10%at之间。

4.一种制造根据权利要求1所述的宽光谱太阳能吸收半导体的制造方法,其特征在于,其制备工艺包括下列步骤:

步骤一:首先按照化学计量比将反应原料真空封装于石英玻璃管中;

步骤二:将石英玻璃管放入程序控温马弗炉中,缓慢升温至第一目标温度,并保温烧结第一预定时间,最后样品随炉冷却至室温;

步骤三:将所得样品在玛瑙研钵中研磨并重新真空封装,升温至第二目标温度再次保温烧结第二预定时间,得到最终的样品。

5.如权利要求4所述的宽光谱太阳能吸收半导体的制造方法,其特征在于,第一目标温度是700-800℃,第一预定时间是24-48小时。

6.如权利要求4所述的宽光谱太阳能吸收半导体的制造方法,其特征在于,第二目标温度为700-800℃,第二预定时间为48-72小时。

7.如权利要求4所述的宽光谱太阳能吸收半导体的制造方法,其特征在于,步骤一中反应原料为单质。

8.如权利要求4所述的宽光谱太阳能吸收半导体的制造方法,其特征在于,步骤一中反应原料为二元化合物。

9.如权利要求4所述的宽光谱太阳能吸收半导体的制造方法,其特征在于,石英玻璃管抽真空采用抽真空-充氩气-抽真空操作流程。

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