[发明专利]粗动台防转装置和粗动台组件有效

专利信息
申请号: 201611076306.0 申请日: 2016-11-29
公开(公告)号: CN108121165B 公开(公告)日: 2020-01-24
发明(设计)人: 丛国栋 申请(专利权)人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 31237 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 201203 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 防撞 线缆 磁钢阵列 防转装置 动磁铁 台组件 发热量 自由度限制 对称布置 对称设置 平面电机 重力补偿 侧边 防转 台侧 同极 出力 电机 铺设 安全
【说明书】:

发明公开了一种粗动台防转装置和粗动台组件,该粗动台防转装置包括线缆台防撞臂、防撞臂磁钢阵列和粗动磁铁,其中,所述线缆台防撞臂对称设置于粗动台两侧,所述防撞臂磁钢阵列铺设在所述线缆台防撞臂上,所述粗动磁铁安装在所述粗动台的两侧且磁性与所述防撞臂磁钢阵列相同。本发明通过设置对称布置的2组线缆台防撞臂,增强了防转刚度,可将粗动台的各自由度限制在安全范围内;本发明通过在线缆台防撞臂上设置防撞臂磁钢阵列,并在粗动台侧边设置同极的粗动磁铁,可以对粗动台进行重力补偿,改善了线缆台侧粗动平面电机的出力情况,减少了电机发热量,提高了控制精度。

技术领域

本发明涉及光刻机领域,特别涉及一种粗动台防转装置和粗动台组件。

背景技术

磁浮双工件台光刻机是在一套光刻系统里设置两个硅片台,它们通过磁场悬浮在磁钢阵列上,并与磁钢阵列保持毫米级间隙,两硅片台分别位于曝光位置和测量位置,独立且同时运行:当其中一硅片台在曝光位置进行步进扫描曝光时,另一硅片台在测量位置完成硅片的上下片、硅片三维形貌测量(map)等准备工作,当位于曝光位的硅片台完成整个硅片的曝光后,两硅片台交换位置和职能,如此循环往复完成硅片的高效曝光。

粗动台在磁钢阵列上运动时需限制其各自由度范围,以防失控发生碰撞,同时还要对其位置进行检测。现有防转装置是在线缆台上设置单根防撞臂,并通过将与粗动台相连的两个限位块置于防撞臂滑槽内,以实现对粗动台各自由度的限制,但在防撞臂与限位块发生碰撞时,单根防撞臂刚性不足,难以承受较大的旋转力;同时现有粗动台的粗动平面电机设置在微动台下方,造成粗动台重心与粗动平面电机发力中心偏移,致使线缆台侧粗动平面电机出力较大,寿命下降,也给控制造成难度;同时现有粗动台通过设置在粗动台底部的电涡流传感器实现对粗动台Z向、RX向、RY向行程的检测,但电涡流传感器的检测基准为平衡质量磁钢阵列,面型较差且易变形,这给工件台初始化测校以及粗动台Z向、RX向、RY向行程的检测带来困难。

发明内容

本发明提供一种粗动台防转装置和粗动台组件,从而将粗动台的各自由度限制在安全范围内,同时提高粗动台的控制精度。

为解决上述技术问题,本发明提供一种粗动台防转装置,包括:线缆台防撞臂、防撞臂磁钢阵列和粗动磁铁,其中,所述线缆台防撞臂对称设置于粗动台两侧,所述防撞臂磁钢阵列铺设在所述线缆台防撞臂上,所述粗动磁铁安装在所述粗动台的两侧且磁性与所述防撞臂磁钢阵列相同。

作为优选,所述线缆台防撞臂成单边开口结构。

作为优选,还包括X向位置传感器,所述X向位置传感器包括沿X向设置在所述线缆台防撞臂内侧的光栅尺和设置在所述粗动台上位置与所述光栅尺对应的光栅尺读头。

作为优选,还包括RX、RZ、Y向位置传感器,该RX、RZ、Y向位置传感器呈三角形布置在所述粗动台的一侧,位置与线缆台防撞臂对应。

作为优选,所述RX、RZ、Y向位置传感器均采用电涡流位置传感器。

作为优选,还包括RY向位置传感器和Z向位置传感器,所述RY向位置传感器和Z向位置传感器沿水平向布置在所述粗动台的一侧,位置与所述线缆台防撞臂对应。

作为优选,所述RY向位置传感器和Z向位置传感器均采用电涡流位置传感器。

本发明还提供一种粗动台组件,包括:粗动台、设置在所述粗动台一侧的线缆台、设置于线缆台上的线缆、设置在所述粗动台下方的粗动台磁钢阵列以及设置在所述线缆台下方的线缆台磁钢阵列,还包括如上所述的粗动台防转装置。

作为优选,所述粗动台磁钢阵列和线缆台磁钢阵列由磁钢阵列框架固定。

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