[实用新型]电迁移测试结构有效
申请号: | 201520408049.0 | 申请日: | 2015-06-12 |
公开(公告)号: | CN204720446U | 公开(公告)日: | 2015-10-21 |
发明(设计)人: | 赵祥富 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
主分类号: | H01L23/544 | 分类号: | H01L23/544 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 迁移 测试 结构 | ||
1.一种电迁移测试结构,其特征在于,包括:多个相同的测试单元、多条具有PN结的金属连线、多个感知测试盘,其中,每个所述测试单元的两端均通过所述金属连线分别与所述感知测试盘相连,构成多条测试回路,其中一部分测试回路导通时,其余部分的测试回路关断。
2.如权利要求1所述的电迁移测试结构,其特征在于,所述测试单元包括:第一施加端、第二施加端及待测金属线,其中,所述待测金属线的两端分别与所述第一施加端和第二施加端通过通孔连线相连。
3.如权利要求2所述的电迁移测试结构,其特征在于,所述第一施加端和第二施加端位于所述待测金属线的下一层。
4.如权利要求2所述的电迁移测试结构,其特征在于,所述第一施加端和第二施加端位于所述待测金属线的上一层。
5.如权利要求3或4所述的电迁移测试结构,其特征在于,所述待测金属线的长度为400μm。
6.如权利要求5所述的电迁移测试结构,其特征在于,所述第一施加端和第二施加端的宽度为所述待测金属线宽度的5倍。
7.如权利要求6所述的电迁移测试结构,其特征在于,所述测试单元的个数为2个,分别为第一测试单元和第二测试单元。
8.如权利要求7所述的电迁移测试结构,其特征在于,所述感知测试盘的个数为2个,分别为第一感知测试盘和第二感知测试盘。
9.如权利要求8所述的电迁移测试结构,其特征在于,所述第一感知测试盘与所述第一施加端相连,所述第二感知测试盘与所述第二施加端相连。
10.如权利要求9所述的电迁移测试结构,其特征在于,还包括第一施加测试盘和第二施加测试盘,所述第一施加测试盘与所述第一感知测试盘电连接,所述第二施加测试盘与所述第二感知测试盘电连接。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(北京)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(北京)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201520408049.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。