[发明专利]一种头孢曲松钠光降解产物及其制备方法和分析检测方法有效

专利信息
申请号: 201510368880.2 申请日: 2015-06-29
公开(公告)号: CN105017243B 公开(公告)日: 2018-06-08
发明(设计)人: 陆锡安;于鑫;邹晓明;张国成;姚益 申请(专利权)人: 苏州东瑞制药有限公司
主分类号: C07D417/14 分类号: C07D417/14;G01N30/88;G01N33/15
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215128 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 头孢曲松钠 降解产物 光降解 制备 分析检测 最大吸收波长 快速检测 物质检查 液相分析 质量标准 检出率 可控性 波长 检测 发现
【说明书】:

发明公开了一种头孢曲松钠光降解产物及其制备方法和分析检测方法。本发明发现了一种新的头孢曲松钠光降解产物,该降解产物结构首次报道;本发明提供的所述光降解产物的制备方法简单易行,可大量制备该降解产物;本发明提供的液相分析方法能快速检测出所述降解产物,选择该降解产物的最大吸收波长作为检测波长,提高了该降解产物的检出率,结果准确可靠;本发明提供的光降解产物可以用于头孢曲松钠及其制剂的有关物质检查,进一步提高头孢曲松钠及其制剂的质量标准,提高其安全性和可控性。

技术领域

本发明涉及药物技术领域,具体涉及一种头孢曲松钠光降解产物,以及该光降解产物的制备方法和分析检测方法。

背景技术

头孢曲松钠是瑞士Roche公司1982年上市的广谱长效抗菌素,具有很大市场份额,是第三代具有广谱抗菌活性的头孢菌素,用于敏感致病菌所致的下呼吸道感染、尿路、胆道感染,以及腹腔感染、盆腔感染、皮肤软组织感染、骨和关节感染、败血症、脑膜炎等及手术期感染预防。头孢曲松钠原料药生产厂家众多,其化学结构如下:

该原料药的质量标准在英国药典、欧洲药典、美国药典中均有收载,杂质控制要求为:五个已知杂质A、B、C、D、E限度不超过1.0%,未知杂质限度不超过0.05%,总杂限度不超过4.0%。中国药典2010版杂质限度要求为:单个杂质峰面积不得大于对照溶液主峰面积的0.5倍(0.5%),各杂质峰面积的和不得大于对照溶液主峰面积的2倍(2.0%)。

五个已知杂质A、B、C、D、E化学结构如下:

国际上公认的药品注册要符合人用药品注册技术国际协调会(ICH)及EP欧洲药典中的要求,其对药物中的杂质进行了严格的规定。ICH要求申报者应对原料药在合成、精制和储存过程中最可能产生的那些实际存在的和潜在的杂质进行概述,该描述应对合成中的化学反应、由原料引起的杂质及可能的降解产物进行合理的、科学地评估;并且申报资料中还应对那些在原料药中实际存在的表观量大于或等于0.05%(每日最大剂量大于2g)的杂质结构特征进行描述。

可能的降解产物可通过破坏性试验和稳定性试验进行评估。但是,现有的头孢曲松钠质量标准中,有关物质的液相分析方法洗脱强度较弱,可能并不能将降解产物都分离检测出来。这些漏检出的降解产物无疑降低了头孢曲松钠的质量,如不对这些降解产物加以严格控制,可能会对人体产生严重的毒副作用。

发明内容

为了克服上述缺陷,本发明采用洗脱强度高的洗脱剂对头孢曲松钠的破坏性试验样品和稳定性试验样品进行分析,在光破坏样品中发现了一种新的降解产物,该降解产物在稳定性试验长期6个月未避光样品中开始检测到,且含量随时间增高,长期18月时达0.05%。因此:

本发明的第一目的在于提供一种新的头孢曲松钠光降解产物;

本发明的第二目的在于提供所述光降解产物的制备方法;

本发明的第三目的在于提供所述光降解产物的分析检测方法;

本发明的第四目的在于提供所述光降解产物在头孢曲松钠及其制剂的有关物质检查项中作为杂质对照品的用途。

上述目的是通过如下技术方案实现的:

一种头孢曲松钠光降解产物,化学结构如下,

一种所述光降解产物的制备方法,包括如下步骤:

(1)光照破坏样品制备:将头孢曲松钠原料药光照破坏,先经冷白荧光灯照射,再经紫外荧光灯照射;

(2)降解产物富集:将上述光照破坏样品溶于甲醇体积百分浓度为60%~90%的甲醇-水溶液中,搅拌,抽滤,收集滤液,减压浓缩得浓缩物;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州东瑞制药有限公司,未经苏州东瑞制药有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510368880.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top