[实用新型]一种电机驱动芯片的电流衰减模式检测电路有效

专利信息
申请号: 201320763608.0 申请日: 2013-11-25
公开(公告)号: CN203632586U 公开(公告)日: 2014-06-04
发明(设计)人: 湛衍;黄武康;杨志飞;代军;姚远;王良坤;陈路鹏;夏存宝;万巧玲 申请(专利权)人: 嘉兴中润微电子有限公司
主分类号: H02P8/12 分类号: H02P8/12
代理公司: 上海旭诚知识产权代理有限公司 31220 代理人: 丁惠敏
地址: 314006 浙江省嘉兴市凌公*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 电机 驱动 芯片 电流 衰减 模式 检测 电路
【权利要求书】:

1.一种电机驱动芯片的电流衰减模式检测电路,其特征在于,包括电流衰减时间控制电路、数字逻辑控制电路、以及外接并联电路;

所述电流衰减时间控制电路包括若干PMOS管、若干NMOS管、核心电路和电流镜结构;使能信号通过所述PMOS管(MP5)的栅极接入所述电流衰减时间控制电路;

所述核心电路包括双极型晶体管(Q0)、双极型晶体管(Q1)、双极型晶体管(Q2)、双极型晶体管(Q3)、电阻(R0)、电阻(R1)、电阻(R2)和电阻(R3);所述双极型晶体管(Q0)的集电极连接至电源VDD上,所述双极型晶体管(Q0)基极的一侧通过所述电阻(R0)和所述PMOS管(MP5)与所述电源VDD相连,所述双极型晶体管(Q0)基极的另一侧通过所述电阻(R1)、所述电阻(R2)和所述NMOS管(MN1)与所述双极型晶体管(Q0)的发射极相连;所述双极型晶体管(Q1)的基极与所述双极型晶体管(Q2)的发射极相连,所述双极型晶体管(Q1)的发射极通过所述电阻(R3)与所述双极型晶体管(Q3)的发射极相连;所述双极型晶体管(Q2)的基极和集电极之间通过所述电阻(R2)相连;所述双极型晶体管(Q3)的基极与集电极之间通过若干NMOS管相连;

所述电流镜结构包括PMOS管(MP0)、PMOS管(MP1)、PMOS管(MP2)、PMOS管(MP3)和PMOS管(MP4),所述PMOS管(MP0)的栅极、所述PMOS管(MP1)的栅极、所述PMOS管(MP2)的栅极、所述PMOS管(MP3)的栅极和所述PMOS管(MP4)的栅极皆连接到偏置电流Ibias上;所述PMOS管(MP0)的源极、所述PMOS管(MP1)的源极、所述PMOS管(MP2)的源极、所述PMOS管(MP3)的源极和所述PMOS管(MP4)的源极皆连接到所述电源VDD上;所述PMOS管(MP0)的漏极、所述PMOS管(MP1)的漏极、所述PMOS管(MP2)的漏极、所述PMOS管(MP3)的漏极和所述PMOS管(MP4)的漏极与所述核心电路相连;并在所述PMOS管(MP3)的漏极与所述NMOS管(MN4)的漏极之间输出电压VA,在所述PMOS管(MP4)的漏极与所述NMOS管(MN5)的漏极之间输出电压VB

所述外接并联电路连接在所述电流衰减时间控制电路的所述NMOS管(MN6)的漏极和源极之间,包括电阻(RT)和电容(CT),所述电阻(RT)和所述电容(CT)是并行连接的,在所述NMOS管(MN6)的漏极与所述完结并联电路连接处输出电压Vc

所述数字逻辑控制电路包括比较器、锁存器和逻辑门电路,所述数字逻辑控制电路的输入信号分别为衰减信号、外接电压VPFD和所述输出电压VA、VB和VC,所述输出电压VC通过所述比较器与外接电压VPFD比较,将结果输出到驱动模块;所述输出电压VA输入到所述锁存器中,所述输入电压VB与所述衰减信号先经过所述逻辑门电路,再输入到所述锁存器中;从所述锁存器输出的信号一部分做为交换信号(switch)输出,另外一部分输出给所述Drive模块;所述交换信号(switch)通过所述PMOS(MP8)栅极接入所述电流衰减时间控制电路。

2.如权利要求1所述的一种电机驱动芯片的电流衰减模式检测电路,其中,当所述输出电压VA处于低电平时,电机的线圈电流处于上升阶段,当所述输出电压VA处于高电平时,电机的线圈电流处于衰减阶段。

3.如权利要求1所述的一种电机驱动芯片的电流衰减模式检测电路,其中,当所述输出电压VB处于低电平时,对所述衰减信号进行保持;当所述输出电压VB处于高电平是,对所述衰减信号进行屏蔽。

4.如权利要求1所述的一种电机驱动芯片的电流衰减模式检测电路,其中,当所述输出电压VC处于低电平时,电机线圈电流处于慢衰减阶段,当所述输出电压VC处于高电平时,电机线圈电流处于快衰减阶段。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于嘉兴中润微电子有限公司,未经嘉兴中润微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320763608.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top