[实用新型]一种酸性蚀刻废液的再生处理系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及工业废水环保处理及金属铜回收领域，特别地，涉及一种酸性蚀刻废液的再生处理系统。

背景技术

电子工业的快速增长，使得印刷电路板产量日益增加，从而造成了大量电路板蚀刻废液的产生和排放，包括：微蚀废液、酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液。目前我国印制线路板制造企业有3000多家，酸性蚀刻液排放量约为8kt/d，并且还在增加。为此，国家环境保护部颁布了《中华人民共和国国家环境保护标准HG450-2008》，规定印刷线路板制造生产企业必须对其蚀刻液进行回收利用，并且铜的回收率要达到95%。酸性蚀刻废液的主要成分包括氯化铜、氯化氢、氯化氨或氯化钠等，其中铜的浓度高于100g/L在PCB生产的蚀刻过程中，酸性蚀刻液中的Cu²⁺的离子与铜箔作用生成Cu⁺离子，且Cu⁺离子浓度不断升高，Cu²⁺离子浓度不断降低，则蚀刻能力逐渐降低。当酸性蚀刻液的蚀刻能力降低到一定程度时就必须进行再生处理，回收其中的铜，又使经处理后的蚀刻液回用，有着十分重大的经济价值和环境意义。

目前，酸性蚀刻废液再生处理设备主要是电解槽，电解槽包括常规电解槽和膜电解槽。

常规电解槽的阴极室和阳极室相互连通，因此阳极液与阴极液的组成及浓度均相同，会产生大量氯气，对环境造成污染和毒害，同时，也造成了氯气资源浪费。膜电解槽采用离子膜作为物理隔离材料，将阳极液、阴极液分开，从而使阳极液、阴极液的组成不同、浓度不同，减少氯气的析出。但是膜电解也存在以下弊端：膜的使用寿命短，容易破损，成本高；且槽电压高，电耗高。另外，以上两种电解系统处理后的蚀刻废液都需要补加额外的氧化剂进行再生；且目前电解法处理酸性蚀刻废液一般产铜粉，需要复杂的出铜系统，应用成本较高。

实用新型内容

本实用新型目的在于提供一种采用常规电解槽实现酸性蚀刻废液的再生，并且结构简单、无环境污染、不需添加氧化剂的酸性蚀刻废液的再生处理系统，以解决现有采用常规电解槽进行酸性蚀刻废液的再生时排放氯气污染环境，而采用膜电解槽进行酸性蚀刻废液的再生时膜的使用寿命短、容易破损、成本高；且前述两种方式均需补加额外的氧化剂，增加成本的技术问题。

为实现上述目的，本实用新型提供了一种酸性蚀刻废液的再生处理系统，其特征在于，包括：阴极室和阳极室相互连通的电解槽、设于所述电解槽上方的废气收集装置以及与所述废气收集装置相连的射流吸收槽；

所述酸性蚀刻废液循环导入所述电解槽和所述射流吸收槽中，经所述电解槽和所述射流吸收槽再生处理成再生液后返回所述生产蚀刻缸。

作为本实用新型的进一步改进：

所述射流吸收槽上设置有碱喷淋装置。

所述废气收集装置通过射流器将从所述电解槽上方收集的废气注入所述射流吸收槽中，所述射流吸收槽通过管道与所述生产蚀刻缸连通。

所述射流吸收槽与用于监测所述射流吸收槽中的酸性蚀刻废液的电位值的ORP仪相连，并根据所述ORP仪的检测结果将经所述射流吸收槽产生的再生液返回所述生产蚀刻缸。

所述系统还包括用于容装所述生产蚀刻缸排出的酸性蚀刻废液的废液储存槽，所述废液储存槽通过管道分别与所述射流吸收槽和所述电解槽相连。

所述电解槽通过管道与电解液循环槽循环连通，所述电解液循环槽通过管道从所述废液储存槽中导入所述酸性蚀刻废液，并将所述电解槽处理产生的再生液导出至蚀刻液溢流槽；

所述废液储存槽和所述蚀刻液溢流槽分别通过管道与所述生产蚀刻缸连通。

所述蚀刻液溢流槽与比重计相连。

所述废液储存槽和所述电解液循环槽之间、所述电解液循环槽与所述电解槽之间、所述蚀刻液溢流槽与所述生产蚀刻缸之间、所述射流吸收槽与所述生产蚀刻缸之间均设有泵。

所述电解槽内设置有与阴极板和阳极板，所述阴极板和阳极板分别与直流电源的负极和正极电气连接，所述阴极板为钛板，所述阳极板为析氯型钛涂层阳极板。

本实用新型具有以下有益效果：

本发明的酸性蚀刻废液的再生处理系统，采用常规电解槽实现酸性蚀刻废液的再生，并收集利用酸性蚀刻废液电解产生的氯气一部分氧化蚀刻废液中的亚铜离子，另一部分与水反应后作为氧化剂和酸返回生产蚀刻缸，不需额外添加氧化剂来再生蚀刻废液，无环境污染并可节约资源；同时，由于采用无需离子交换膜的常规电解槽，结构简单，成本低廉。