[发明专利]气体分配网络中的流量平衡

权利要求书

1.一种用于将工艺气体供应给多站沉积室中的两或更多个站的流量分配网络，所述流量分配网络包括：

用于接收所述工艺气体的入口；

用于运载所述工艺气体的流量分配管线的网络，其包括所述入口下游的分支点和所述分支点下游的两或更多条支线，其中每一条支线具有用于将工艺气体供应给相应的站的出口；

每一条支线中的具有C_v值的可变流量元件，该C_v值跨所述支线从元件到元件以至少约2%的幅度变化；以及

每一条支线中的所述可变控制元件下游的限制部件，其中所述限制部件在标称上是相同的，

其中从所述入口到所述出口，所述工艺气体的流跨所述流量分配网络产生系统压降，该系统压降至少与所述出口处的压强一样大。

2.如权利要求1所述的流量分配网络，其中所述可变流量元件操作在所述未壅塞流态中。

3.如权利要求1所述的流量分配网络，其中所述限制部件产生跨所述限制部件的占所述系统压降的平均至少约3%的压降。

4.如权利要求1所述的流量分配网络，其中所述限制部件产生跨所述限制部件的占所述系统压降的平均至少约50%的压降。

5.如权利要求1所述的流量分配网络，其中所述限制部件产生跨所述限制部件的占所述系统压降的平均在10%和80%之间的压降。

6.如权利要求1所述的流量分配网络，其中所述可变流量元件产生跨所述可变流量元件的占所述流量分配网络中的总压降的平均至多约10%的压降。

7.如权利要求1所述流量分配网络，其中所述可变流量元件产生跨所述可变流量元件的占所述流量分配网络中的总压降的平均至多约5%的压降。

8.如权利要求1所述的流量分配网络，其中所述可变流量元件平均地产生所述流量分配网络中的所述压降的第一部分而所述限制部件平均地产生所述流量分配网络中的所述压降的第二部分，且其中所述第二部分与所述第一部分之比在约5:1至约20:1之间。

9.如权利要求1所述的流量分配网络，其中所述可变流量元件产生质量流率，当每一个元件经历实质上相同的压降时，该质量流率跨所述支线从元件到元件平均以至少约2%的幅度变化。

10.如权利要求1所述的流量分配网络，其中所述支线中的所述限制部件具有C_v值，该C_v值跨所述支线从部件到部件平均以1%或更小的幅度变化。

11.如权利要求1所述的流量分配网络，其中所述支线中的所述限制部件具有C_v值，该C_v值跨所述支线从部件到部件平均以4%或更小的幅度变化。

12.如权利要求1所述的流量分配网络，其中每一条支线中的所述可变流量元件包括阀。

13.如权利要求1所述的流量分配网络，其中所述限制部件是所述可变控制元件下游的相关流量分配管线中的限制件。

14.如权利要求1所述的流量分配网络，其中所述限制部件将工艺气体以标称上均匀的质量流率提供给给站供应的各出口。

15.如权利要求14所述的流量分配网络，其中所述标称上均匀的质量流率在出口之间以小于约1%的幅度变化。

16.如权利要求14所述的流量分配网络，其中所述标称上均匀的质量流率在出口之间以小于约2%的幅度变化。

17.如权利要求1所述的流量分配网络，其进一步包括与所述入口和所述出口通信的控制器以控制所述系统压降。

18.如权利要求1所述的流量分配网络，其中所述入口压强小于约200托。