[发明专利]显示设备的基板及其制造方法

权利要求书

1.一种显示设备，该显示设备包括：

基板；

薄膜晶体管，所述薄膜晶体管在所述基板上；以及

光敏有机材料的钝化层，所述光敏有机材料的钝化层在所述薄膜晶体管上，所述钝化层具有露出所述薄膜晶体管的接触孔，

其中，所述光敏有机材料包括紫外线吸收剂，并且所述紫外线吸收剂被配置为吸收经过在所述接触孔之上的掩膜中的阻挡区域的经反射的紫外UV线。

2.根据权利要求1所述的显示设备，其中，从所述阻挡区域的边缘反射的UV线包括分别具有大约436nm和405nm的波长的g线形UV线和h线形UV线。

3.根据权利要求1所述的显示设备，其中，所述紫外线吸收剂吸收经反射的g线形UV线和h线形UV线。

4.根据权利要求1所述的显示设备，其中，所述光敏有机材料还包括：

光引发剂，当照射UV线时所述光引发剂产生自由基；

交联剂，所述交联剂链接所述自由基；以及

结合剂，所述结合剂结合所述自由基。

5.根据权利要求4所述的显示设备，其中，所述光敏有机材料还包括用于将所述自由基去除的自由基清除剂。

6.根据权利要求5所述的显示设备，其中，所述交联剂包括多功能单体，并且其中，由所述多功能单体的酸值来调整所述光敏有机材料的临界曝光能量密度。

7.根据权利要求1所述的显示设备，其中，在钝化区域之上的所述阻挡区域具有与所述接触孔的宽度相同的宽度。

8.一种显示设备，该显示设备包括：

基板；

薄膜晶体管，所述薄膜晶体管在所述基板上；以及

光敏有机材料的钝化层，所述光敏有机材料的钝化层在所述薄膜晶体管上，所述钝化层具有露出所述薄膜晶体管的接触孔，

其中，所述光敏有机材料包括紫外线吸收剂，并且所述紫外线吸收剂被配置为吸收具有比i线形UV线的波长更长的波长的经反射的紫外UV线。

9.根据权利要求8所述的显示设备，其中，从阻挡区域的边缘反射的UV线包括分别具有大约436nm和405nm的波长的g线形UV线和h线形UV线。

10.根据权利要求8所述的显示设备，其中，所述紫外线吸收剂吸收经反射的g线形UV线和h线形UV线。

11.一种用于制造显示设备的方法，该方法包括：

形成所述显示设备的基板；

在所述基板上形成薄膜晶体管；

在所述薄膜晶体管上形成光敏有机材料的钝化层，所述钝化层具有露出所述薄膜晶体管的接触孔，其中，所述光敏有机材料包括紫外线吸收剂；

在所述接触孔之上的掩膜中形成阻挡区域；并且

经由所述紫外线吸收剂吸收经过在所述接触孔之上的所述掩膜中的所述阻挡区域的经反射的紫外UV线。

12.根据权利要求11所述的方法，该方法还包括：

经由所述紫外线吸收剂吸收从所述阻挡区域的边缘反射的g线形UV线和h线形UV线，所述反射的g线形UV线和h线形UV线分别具有大约436nm和405nm的波长。

13.根据权利要求11所述的方法，该方法还包括：

经由所述紫外线吸收剂吸收经反射的g线形UV线和h线形UV线。

14.根据权利要求11所述的方法，其中，所述光敏有机材料还包括：

光引发剂，当照射UV线时所述光引发剂产生自由基；

交联剂，所述交联剂链接所述自由基；以及

结合剂，所述结合剂结合所述自由基。

15.根据权利要求14所述的方法，其中，所述光敏有机材料还包括用于将所述自由基去除的自由基清除剂。

16.根据权利要求15所述的方法，其中，所述交联剂包括多功能单体，并且

其中，由所述多功能单体的酸值来调整所述光敏有机材料的临界曝光能量密度。

17.根据权利要求11所述的方法，其中，在钝化区域之上的所述阻挡区域具有与所述接触孔的宽度相同的宽度。