[发明专利]控制和/或调节局部线圈在检查对象上施加的压力在审
申请号: | 201310305887.0 | 申请日: | 2013-07-19 |
公开(公告)号: | CN103576110A | 公开(公告)日: | 2014-02-12 |
发明(设计)人: | B.西斯曼 | 申请(专利权)人: | 西门子公司 |
主分类号: | G01R33/341 | 分类号: | G01R33/341;A61B5/055 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 谢强 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 控制 调节 局部 线圈 检查 对象 施加 压力 | ||
1.一种用于磁共振成像系统(1)的局部线圈系统(10),具有局部线圈(100),该局部线圈具有能用流体(FM)填充的压力元件(150、151、152),并且所述磁共振成像系统还具有至少在将所述局部线圈(100)放在检查对象(O)上时和/或在所述局部线圈运行时与所述压力元件(150、151、152)耦合的可控制的流体供应装置(20),该流体供应装置设计成,使得所述压力元件(150、151、152)借助所述流体(FM)形成在所述检查对象(O)上的压力(P)至少局部地变化。
2.根据权利要求1所述的局部线圈系统,其特征在于,所述流体供应装置(20)设计成,使得所述压力元件(150、151、152)的填充压力能够在所述局部线圈(100)按规定运行期间变化。
3.根据权利要求1或2所述的局部线圈系统,其特征在于,所述流体(FM)是气体、尤其空气,或者是优选不可压缩的流体介质。
4.根据权利要求1至3之一所述的局部线圈系统,其特征在于,所述局部线圈(100)具有多个压力元件(150、151、152),其中,所述局部线圈系统(10)优选设计成,使得所述压力元件(150、151、152)分别以彼此不同的填充压力运行。
5.根据权利要求1至4之一所述的局部线圈系统,其特征在于,基本上在所述局部线圈(100)按规定运行时局部线圈(100)的面向所述检查对象(O)的整个表面被所述压力元件(150)或者多个压力元件(150、151、152)遮盖。
6.根据权利要求1至5之一所述的局部线圈系统,其特征在于流体排出装置(160),借助该流体排出装置(160)能够实现从所述压力元件(150、151、152)中快速排空所述流体(FM)。
7.根据权利要求1至6之一所述的局部线圈系统(10),其特征在于压力测量装置(180),其用于测量所述压力元件(150、151、152)的填充压力和/或用于测量借助所述压力元件(150、151、152)施加到检查对象(O)上的压力(P)。
8.一种用于根据权利要求1至7之一所述的局部线圈系统(10)的局部线圈(100),具有能用流体(FM)填充的压力元件(150、151、152),所述压力元件设计成,使得所述压力元件(150、151、152)借助所述流体(FM)在检查对象(O)上形成的压力至少能够局部地变化。
9.根据权利要求8所述的局部线圈(100),其中,所述局部线圈具有可控制的流体供应装置(20)。
10.一种磁共振成像系统(1),具有根据权利要求1至7之一所述的局部线圈系统(10)和/或具有根据权利要求8所述的局部线圈。
11.一种磁共振成像系统(1),优选是根据权利要求10所述的磁共振成像系统(1),其中,所述磁共振成像系统具有用于控制和/或调节在局部线圈(100)内的流体(FM)的压力的流体控制装置(50)。
12.根据权利要求11所述的磁共振成像系统(1),其中,所述磁共振成像系统具有用于向局部线圈(100)供应流体(FM)的可控制和/或可调节的流体供应装置(20),其中,所述流体供应装置(22)优选设计用于改变所述流体(FM)的温度。
13.根据权利要求10至12之一所述的磁共振成像系统(10),其中,所述控制装置(50)设计用于,借助不同的用于控制和/或调节所述局部线圈(100)的流体供应的调节特性和/或控制特性在多个不同的型面(P1,P2)之间选择。
14.一种方法,其用于控制和/或调节磁共振成像系统(1)的局部线圈(100)在检查对象(O)上的压力(P),其中,所述局部线圈(100)具有用流体(FM)填充的压力元件(150、151、152),并且,能够改变借助流体(FM)形成的压力。
15.一种用于产生磁共振图像的方法,其特征在于,相对于检查对象(O)定位具有能用流体(FM)填充的压力元件(150、151、152)的局部线圈(100),方式是至少局部地改变压力元件(150、151、152)由所述流体(FM)形成的压力(P)。
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