[发明专利]微光刻投射曝光设备的照明系统

权利要求书

1.一种系统，包括：

a)由可单独控制的射束偏转元件组成的布置，所述布置构造成为光瞳面可变地照明，其中，每个射束偏转元件根据施加到射束偏转元件上的控制信号偏转入射投射光束，

b)构造成产生测量信号的测量装置，

c)基于模型的状态估算器，对于每个射束偏转元件，所述状态估算器构造成利用测量信号计算估计的状态矢量，该状态矢量体现由射束偏转元件引起的投射光束的偏转及其时间导数，

d)调节器，对于每个射束偏转元件，所述节器构造成接收从所述基于模型的状态估算器估算的状态矢量和由射束偏转元件引起的投射光束的偏转及其时间导数的目标值，

其中，所述调节器进一步构造成通过使用所述估算的状态矢量以及目标值计算施加在射束偏转元件上的控制信号，

其中，所述系统为微光刻投射曝光设备的照明系统。

2.按照权利要求1所述的系统，其中，所述基于模型的状态估算器构造成按一定的时钟频率输出估算的状态矢量，该时钟频率高于产生测量信号的时钟频率。

3.按照权利要求1所述的系统，其中，所述基于模型的状态估算器是卡尔曼滤波器。

4.按照权利要求1所述的系统，其中，所述调节器包括：

a）第一比例元件，构造成为馈送至所述调节器的调节差乘以一个常数，

b）第二比例元件，构造成为所述调节差积分的积分器的输出信号乘以一个常数，

c）第三比例元件，构造成为所示调节差的时间导数乘以一个常数。

5.按照权利要求4所述的系统，其中，所述调节器构造成通过将所述第一比例元件的输出、第二比例元件的输出及第三比例元件的输出相加来计算所述控制信号。