[发明专利]一种钛金属加工用丝锥表面制备非晶碳涂层的方法无效

专利信息
申请号: 201310016999.4 申请日: 2013-01-17
公开(公告)号: CN103088303A 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 赵玉清;王晓艳;陈仙;杨鑫;朱克志;王炎武 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32;C23C14/06
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 徐文权
地址: 710049 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 金属 工用 丝锥 表面 制备 非晶碳 涂层 方法
【权利要求书】:

1.一种钛金属加工用丝锥表面制备非晶碳涂层的方法,其特征在于,包括以下步骤:

(1)基体预处理:首先对基体表面进行酒精脱水,然后放入丙酮溶液中,用超声波清洗,氮气吹干;所述基体为硬质合金或高速钢丝锥;

(2)离子清洗:将预处理后的基体放入镀膜机真空室的转台上进行离子清洗;

(3)形成非晶碳薄膜:启动过滤电弧离子源,离子源的工作气压为≤9×10-4Pa,电弧电流为80~90A,石墨靶阴极的碳纯度为99.99%,通过电弧放电产生的局部高温使石墨表面气化成碳原子和分子,在放电室中进一步电离后形成碳离子,电离的碳离子通过磁过滤装置过滤掉中性石墨大颗粒后,被沉积在基体表面,形成非晶碳薄膜涂层。

2.根据权利要求1所述的钛金属加工用丝锥表面制备非晶碳涂层的方法,其特征在于,所述步骤(2)中离子清洗是指,采用冷阴极离子源,进行离子清洗,离子源通入氩气,流量为10~20sccm,保持真空室气压2~6×10-2Pa,离子源的放电电压为400V-600V,放电电流为100mA-200mA,引出电压为1000V-1200V,引出电流50mA-100mA,轰击部件10-30分钟,离子源纵向均匀尺寸为40mm,转台以3r/min的线速度旋转,保证横向清洗均匀。

3.根据权利要求1所述的钛金属加工用丝锥表面制备非晶碳涂层的方法,其特征在于,所述步骤(3)中碳离子沉积是指,偏压采用直流脉冲,电源占宽比为1:1,偏压幅值为200V,转台以3r/min的线速度旋转,保证基体涂层横向均匀,磁场扫描线圈沿基体的纵向扫描,扫描的频率为50Hz,基体温度≤80C°,基体的涂层厚度为300-400nm。

4.根据权利要求1所述的钛金属加工用丝锥表面制备非晶碳涂层的方法,其特征在于,所述基体表面形成的非晶碳薄膜涂层为非晶结构,涂层中SP3键结构含量≥80%。

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