[发明专利]具有防破损功能的基板处理系统在审

专利信息
申请号: 201280073999.1 申请日: 2012-06-22
公开(公告)号: CN104380485A 公开(公告)日: 2015-02-25
发明(设计)人: 朴翔显;李东泫;吴贤弼;全光辰;权真焕;朴成镇 申请(专利权)人: SNU精度株式会社
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L21/67
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 宋融冰
地址: 韩国忠*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 具有 破损 功能 处理 系统
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种具有防破损功能的基板处理系统,更为详细地涉及一种安装有防破损部,从而能够防止流体罐的破损的具有防破损功能的基板处理系统。

背景技术

在当前社会中,普遍使用储存气体或液体并且能够将液体气化的罐,因此对实际生活或工业活动给予很多帮助。

最近,通过半导体和太阳能电池工业活动的飞跃发展,增加了对半导体和太阳能电池的需求,随之增加能够储存用于制造半导体和太阳能电池薄膜的流体的罐的使用。

另外,制造太阳能电池的薄膜方法使用溅射法。该溅射法为,从储存有流体的罐通过管道接收气化的气体,并在真空状态的腔室内使原子或分子单位的沉积物质在被沉积基板的表面上凝固,从而形成薄膜。

然而,在用于形成薄膜的物质气化并向管道流动的过程中,管道从流动的气体中接收很多热量而膨胀。

因此,在流体罐与腔室之间相互连接的管道因热膨胀而产生体积变化,从而会引起所述流体罐和腔室的破损。

发明内容

因此,本发明是为了解决所述的以往问题而提出的,其目的是提供一种具有防破损功能的基板处理系统,该具有防破损功能的基板处理系统利用防破损部,所述防破损部能够防止由于管道的热膨胀而导致的流体罐和管道的破损。

本发明的课题通过本发明的具有防破损功能的基板处理系统而实现,其特征在于,包含:流体罐,可储存流体;腔室,提供从所述流体罐接收流体而处理基板的空间;管道,将所述流体罐与所述腔室彼此连接,从而使所述流体能够流动;防破损部,应对所述管道随着所述流体的流动接收热量而产生的热膨胀,能够改变所述流体罐的位置。

此外,所述防破损部可包含:腿部,一端与流体罐连接,另一端支撑罐的负载;和支撑部件,下端固定在地面上,另一端与所述腿部接触而限制所述腿部的移动半径。

此外,所述腿部可包含:框架,用于支撑流体罐;和转动部件,在所述框架的下端以球形设置,并与所述支撑部件的上表面接触而能够移动或转动。

此外,所述支撑部件的上表面可包含凹陷部,具有曲率并向内侧凹陷,以防止所述转动部件从所述支撑部件脱离。

附图说明

图1为本发明的第一实施例的具有防破损功能的基板处理系统的立体图,

图2为本发明的第一实施例的防破损部的示意图,

图3为表示本发明的第一实施例的防破损部的结合关系的主视图,

图4为示意地表示本发明的第一实施例的防破损部的动作的图。

具体实施方式

在对本发明进行说明之前需要说明的是,在多个实施例中,对于具有相同结构的构件使用相同的附图标记,并在第一实施例中进行代表性的说明,在其他实施例中针对与第一实施例不同的结构进行说明。

下面,参照附图对本发明的第一实施例的具有防破损功能的基板处理系统进行详细的说明。

图1为表示本发明的第一实施例的具有防破损功能的基板处理系统的立体图。

参照图1,本发明的第一实施例的具有防破损功能的基板处理系统包含流体罐100、腔室110、管道120及防破损部130。

所述流体罐100为用于储存通过喷嘴向后述的腔室110内喷射的流体的部件。在所述流体罐100的外壁面的一侧设置有管道120,所述管道120在太阳能电池薄膜的制造沉积工序中连接至腔室110而使气化的流体能够流动。

此外,所述流体罐100可包含能够使喷射到基板上的流体气化的气化装置(未图示)及检测气化的流体温度的温度感应模块(未图示)等。

在本实施例中,气化的气体以用于制造太阳能电池薄膜的硒来进行说明,但并不局限于此,可由多种实施例的流体实现。

所述腔室110为从流体罐100接收气化的气体,并且收容对象基板的部件。在所述对象基板上沉积从设置在腔室110内的喷嘴(未图示)喷射的原料(source)。

腔室110提供用于向基板喷射原料的规定的空间,并且与地面坚固地固定。

此外,虽然未图示,可设置有真空泵(未图示),该真空泵能够将所述腔室110内部的压力设置为真空或者根据使用者的要求而调节。所述腔室110可设置有喷嘴(未图示),该喷嘴能够向被沉积基板上均匀地喷射流体。

此外,可设置有能够检测腔室110内的压力的压力传感器模块(未图示),并且在腔室内部可设置有在沉积工序中用于移送基板的基板移送装置(未图示)及用于在腔室110内安装基板的基板支撑台(未图示)。

此外,为了使原料容易地在基板上沉积,可设置有用于将基板加热至规定的温度的加热部件(未图示)等的基板处理系统的常规部件。

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