[发明专利]太阳能电池用基板的制造方法和太阳能电池有效

专利信息
申请号: 201280007026.8 申请日: 2012-01-27
公开(公告)号: CN103339738A 公开(公告)日: 2013-10-02
发明(设计)人: 高远秀尚;坂田功;间濑恵二;石桥正三;原田高行;近藤庸市;浅井秀之 申请(专利权)人: 株式会社不二制作所
主分类号: H01L31/04 分类号: H01L31/04
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 代理人: 周善来;李雪春
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 太阳能电池 用基板 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种半导体基板的制造方法,其特征在于,

所述半导体基板的制造方法包括:

喷砂工序,针对通过对硅锭进行切片制造出的作为切片状态的硅基板的第一面,通过喷砂处理进行表面处理;以及

表面处理工序,在所述喷砂工序之后,利用含有氢氟酸和硝酸中的任意一种以上的腐蚀溶液,对所述硅基板进行表面处理。

2.根据权利要求1所述的半导体基板的制造方法,其特征在于,所述半导体基板的制造方法还包括切片工序,

所述切片工序通过对硅锭进行切片,制造所述第一面和第二面对从600nm到800nm范围的光的波长具有28%以上36%以下的反射率的硅基板,所述第二面是与所述第一面相反一侧的面,

通过所述切片工序制造所述作为切片状态的硅基板。

3.根据权利要求2所述的半导体基板的制造方法,其特征在于,所述切片工序使用了固定磨粒方式的丝,

通过电沉积、树脂、金属或利用了它们的复合的方法,把金刚石磨粒固定在金属丝表面,得到所述固定磨粒方式的丝。

4.根据权利要求2或3所述的半导体基板的制造方法,其特征在于,在利用所述腐蚀溶液进行的所述表面处理工序中,利用所述腐蚀溶液对所述第一面和所述第二面同时进行表面处理。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的半导体基板的制造方法,其特征在于,所述硅锭是多晶硅。

6.一种太阳能电池,其特征在于,所述太阳能电池是使用半导体基板制造出来的,所述半导体基板是通过权利要求1至5中任一项所述的半导体基板的制造方法制造出来的。

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