[实用新型]微细凹凸图案基材、模具以及线栅偏振片

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种在表面具有格子状凹凸形状的微细凹凸图案基材，特别是涉及通过多次转印而形成的微细凹凸图案基材。 

背景技术

由于近年来的光刻技术的进步，形成具有光的波长程度的周期的微细结构（微细凹凸图案）成为可能。特别是具有1μｍ以下的周期的微细凹凸图案的构件或制品不仅在半导体领域在光学领域其利用范围也比较广，是非常地有用的。 

例如，在基板上金属等的导电体线以特定的周期排列成格子状的线栅，如果在其周期长度比入射光（例如，可见光的波长400nm～800nm）小的情况下（例如，2分之1以下），由于相对于导电体线平行地振动的电场矢量成分大部分被反射，垂直的电场矢量成分大部分透射，因此能够作为产生单一偏振光的线栅偏振片使用。由于这样的线栅偏振片能够反射未透射的光进行再利用，从光的有效利用的观点来看是较为理想的偏振片。特别是若能适用于在电视等的大型液晶显示装置中所使用的偏振片的话，从节能的观点来看是非常理想的。 

但是，以现在的光刻技术均一地制作大面积且具有波长以下的周期的微细凹凸光栅是困难的。例如，以石英等的硅系材料得到的微细凹凸母版的大小，即使是尺寸大的也仅有为通用的尺寸的直径12英寸的晶圆尺寸。作为廉价地制作线栅偏振片的方法，已知有利用纳米压印法由母版连续地制作微细凹凸图案，进一步用真空蒸镀法等在该微细凹凸图案上形成金属细线的方法。然而，由于以现有技术无法得到具有比母版大的面积的微细凹凸图案，因此也就不能作为大型液晶显示装置的偏振片使用。制作比通用的12英寸面积大的母版时，巨大的光学系统、用于保证位置精度的高级驱动系统等的设备成为新的需要，从生产成本的观点来看，产业上的利用价值较低。 

因此，提出有几个由小的母版制作大面积的母版的方法，例如，举例有平铺法（タイル法）。关于平铺法，是用光聚合法（PhotoPolymerization法）等由小的母版制作多块复制版，将这些复制版切成规定的形状，并使这些复制版呈瓷砖状并排铺设且多面相连从 而作成大面积的母版。然而，复制版的端面之间的高低差异、角度等的位置匹配、各复制版之间的接合部的树脂的填充的控制非常不容易，由于连接处的不良状况所引起的转印时的高低差异（毛刺），存在有接合部被明确地分辨这样的问题。 

另外，提出有搭配利用UV转印法和XY载物台的分步重复法（ステップアンドリピート法）（专利文献1）。该分步重复法中，用XY载物台对母版（模具）进行定位，依次进行向模具的树脂的填充和从模具向基板的树脂的UV转印，通过进行多次转印得到大面积的母版。 

然而，将分步重复法适用于大面积的图案时，在向模具和基板之间的树脂的填充过程中，树脂从模具端面溢出，如果这些溢出的树脂存在于相邻的图案之间的话，图案间的连接精度将下降。 

另外，一般来说，纳米压印时的树脂的扩散难以在模具端面进行控制，存在树脂向模具端面的外侧溢出而形成溢出树脂的情况。如果存在这样的溢出树脂的话，难以使相邻的照射部分之间（转印区域之间）的图案接近到所希望的距离。因此，存在制作没有视觉辨认性的大面积的图案较为困难这样的问题。 

另外，还提出有通过利用溢出的树脂进行再次转印使图案之间重叠转印的多面相连的凹凸图案制造方法（专利文献2）。该凹凸图案制造方法中，由于能够使形成凹凸图案的部位连续地形成，在为了抑制图案接合部的视觉辨认性方面是比其它的方法更加适宜的方法。然而，仅通过简单地涂布树脂的工序难以进行边界连续部分的高低差异的控制，因此，形成在图案接合部没有视觉辨认性的微细凹凸图案是困难的。 

现有技术文献 

专利文献 

专利文献1：美国专利第7077992号说明书 

专利文献2：日本专利第4112279号公报 

实用新型内容

实用新型要解决的课题 

本实用新型是鉴于以上所述的问题点而研发的，其目的在于提供一种能够降低微细凹凸图案的图案接合部的高低差异、光学特性优异的微细凹凸图案基材。 

解决课题的手段 

本实用新型的发明人们为了解决上述课题进行了刻苦的研究，结果发现即使是通过多 次的转印而制造的微细凹凸图案基材，通过将相邻的微细凹凸图案部之间的图案接合部的高低差抑制到与微细凹凸图案基材的凸部的高度相当，则图案接合部的高低差不会被视觉辨认光学特性优良。