[实用新型]微细凹凸图案基材、模具以及线栅偏振片有效

专利信息
申请号: 201220235112.1 申请日: 2012-05-21
公开(公告)号: CN203012350U 公开(公告)日: 2013-06-19
发明(设计)人: 河津泰幸;吉冈邦久;木下大辅;佐藤祐辅 申请(专利权)人: 旭化成电子材料株式会社
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G02B5/30;B81C1/00
代理公司: 上海市华诚律师事务所 31210 代理人: 肖华
地址: 日本国东京都千代*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 微细 凹凸 图案 基材 模具 以及 偏振
【权利要求书】:

1.一种微细凹凸图案基材,其特征在于,在表面具有周期性排列的格子状凹凸形状,且具有至少700cm2的面积,所述格子状凹凸形状包括第一微细凹凸图案部、第二微细凹凸图案部,以及第一微细凹凸图案部和第二微细凹凸图案部之间的图案接合部,凸部的间距为300nm以下,凸部的高度为1000nm以下。 

2.如权利要求1所述的微细凹凸图案基材,其特征在于,在所述图案接合部的50%以上的区域,所述第一微细凹凸图案部和所述第二微细凹凸图案部之间的图案高低差为1000nm以下。 

3.如权利要求1或2所述的微细凹凸图案基材,其特征在于,所述微细凹凸图案基材由固化了的树脂组成物和基底基材构成。 

4.一种模具,其特征在于,所述模具具有权利要求1至3中任一项所述的微细凹凸图案基材的反转形状图案。 

5.一种微细凹凸图案基材,其特征在于,所述微细凹凸图案基材具有权利要求1至4中任一项所述的微细凹凸图案基材的反转形状图案。 

6.一种线栅偏振片,其特征在于,包括如权利要求1至5中任一项所述的微细凹凸图案基材,以及设置在该微细凹凸图案基材上的金属膜。 

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