[发明专利]用于使化学液与基板表面均匀反应的方法及其设备

说明书

技术领域

本发明涉及一种化学浴沉积设备，特别是一种用于使化学液与基板表面均匀反应的方法及其设备。

背景技术

现有技术如化学浴沉积（Chemical Bath Deposition,CBD）工艺及其设备，其将表面预作处理的一基材（单/多晶硅基板、非晶硅基板等）置于一化学反应盒中，再将该反应盒置于一内部盛装有反应液的浴槽内，并由一传输单元以往复方式移动该反应盒，以供浴槽内的反应液可与该反应盒内的化学液产生化学沉积作用，而持续一定时间后，即可于该基材表面沉积形成一半导体薄膜。但现有技术的化学浴沉积设备，主要缺点在于所形成的薄膜沉积厚度不均匀，无法确保化学液均匀地分散于基板表面，或是必须增加化学液的使用量而有损坏基板、或使其造成形变、破坏等问题。

如图1所示，中国台湾实用新型专利M411437公开了一种现有技术的化学浴沉积设备，包括一热水浴槽1a、以及一设于热水浴槽1a内的传送单元2a，且传送单元2a用以接收并传送一药液盒3a，药液盒3a由一底板30a与一盒盖31a构成，其内供一基板4a设置，并于药液盒3a内注入药液5a，以透过药液5a与热水浴槽1a的反应液10a起化学作用，以于基板4a表面40a形成一薄膜。然而，为使所形成的薄膜厚度均一，该传送单元2a由多个滚轮20a所构成，各滚轮20a能对药液盒3a提供以输送方向为前、后起伏的晃动效果，以供药液5a于药液盒3a内可均匀地扩散于基板4a表面，进而提升所形成的薄膜厚度的均一性。

但若仅依输送方向为前、后起伏的方式来传送该反应盒，药液5a于药液盒3a内虽可随着传送方向而摇泄以分散于基板4a的前、后侧上，但对于左、右侧的部分仍有些许不足，故有待进一步加以改善。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种用于使化学液与基板表面均匀反应的方法及其设备。

为了实现上述目的，本发明提供了一种用于使化学液与基板表面均匀反应的方法，用以供一化学反应盒于反应液进行化学反应，其中，以一包含多个旋转体的输送单元，对所述化学反应盒提供一输送方向进行横向往复的输送，且于输送的过程以一相对所述输送方向为侧向摇晃方法而使各该旋转体与所述化学反应盒接触。

上述的用于使化学液与基板表面反应的方法，其中，该多个旋转体位于一浴槽内，且该浴槽内装盛有所述反应液，且该浴槽以加温或冷却来控制、改变所述反应液的温度。

上述的用于使化学液与基板表面反应的方法，其中，该多个旋转体分别为一凸轮、偏心轮或椭圆形结构，以透过各自转动来改变与所述化学反应盒接触的高度位置而产生摇晃。

上述的用于使化学液与基板表面反应的方法，其中，该多个旋转体的外径，由其轴的一端至另一端呈由大至小、或由小至大的排列，以透过各自转动来改变与所述化学反应盒接触的高度位置而产生摇晃。

为了更好地实现上述目的，本发明还提供了一种用于使化学液与基板表面均匀反应的设备，用以供一化学反应盒进行化学反应，其中，该设备至少包括一输送单元，该输送单元包含多个横向排列的旋转体，用以对上述化学反应盒以一输送方向进行横向往复的输送；

其中，各该旋转体对上述化学反应盒进行横向往复的输送中，以一相对所述输送方向为侧向摇晃方法而与该化学反应盒接触。

上所述的用于使化学液与基板表面均匀反应的设备，其中，还包括一浴槽，且该输送单元设于该浴槽内，该浴槽用以装盛所述反应液。

上述的用于使化学液与基板表面均匀反应的设备，其中，该多个旋转体分别设于轴上，该轴依所述输送方向并列排置，且各该轴上至少具有二所述旋转体。

上述的用于使化学液与基板表面均匀反应的设备，其中，各该轴近其左、右二侧的所述旋转体具有相位差。

上述的用于使化学液与基板表面均匀反应的设备，其中，该多个旋转体分别为一凸轮、偏心轮或椭圆形结构。

上述的用于使化学液与基板表面均匀反应的设备，其中，该多个旋转体的外径，由该轴的一端至另一端呈由大至小、或由小至大的排列。

本发明的技术效果在于：可以使化学液与基板表面均匀反应，成本低，利用一相对输送方向为侧向摇晃手段，使化学反应盒内的化学液可产生左、右二侧方向的摇晃幅度，以增加反应液流向基板侧缘的机率，同时能配合输送方向的作用力而使化学液亦能流向基板前、后缘，进而能产生较大的摇晃幅度，以增加于基板上的流动量而能更均匀地分散于基板上，有助于更进一步增加所形成的薄膜厚度的均一性。同时由于该设备兼具输送与提供基板摇晃作用等功能，因此在设备采购上较为单一，可降低购置成本与配置成本。