[发明专利]用于使化学液与基板表面均匀反应的方法及其设备

权利要求书

1.一种用于使化学液与基板表面均匀反应的方法，用以供一化学反应盒于反应液进行化学反应，其特征在于，以一包含多个旋转体的输送单元，对所述化学反应盒提供一输送方向进行横向往复的输送，且于输送的过程以一相对所述输送方向为侧向摇晃方法而使各该旋转体与所述化学反应盒接触。

2.如权利要求1所述的用于使化学液与基板表面反应的方法，其特征在于，该多个旋转体位于一浴槽内，且该浴槽内装盛有所述反应液，且该浴槽以加温或冷却来控制、改变所述反应液的温度。

3.如权利要求1或2所述的用于使化学液与基板表面反应的方法，其特征在于，该多个旋转体分别为一凸轮、偏心轮或椭圆形结构，以透过各自转动来改变与所述化学反应盒接触的高度位置而产生摇晃。

4.如权利要求1或2所述的用于使化学液与基板表面反应的方法，其特征在于，该多个旋转体的外径，由其轴的一端至另一端呈由大至小、或由小至大的排列，以透过各自转动来改变与所述化学反应盒接触的高度位置而产生摇晃。

5.一种用于使化学液与基板表面均匀反应的设备，用以供一化学反应盒进行化学反应，其特征在于，该设备包括一输送单元，该输送单元包含多个横向排列的旋转体，用以对上述化学反应盒以一输送方向进行横向往复的输送；其中，各该旋转体对上述化学反应盒进行横向往复的输送中，以一相对所述输送方向为侧向摇晃方法而与该化学反应盒接触。

6.如权利要求5所述的用于使化学液与基板表面均匀反应的设备，其特征在于，还包括一浴槽，且该输送单元设于该浴槽内，该浴槽用以装盛所述反应液。

7.如权利要求6所述的用于使化学液与基板表面均匀反应的设备，其特征在于，该多个旋转体分别设于轴上，该轴依所述输送方向并列排置，且各该轴上至少具有二所述旋转体。

8.如权利要求7所述的用于使化学液与基板表面均匀反应的设备，其特征在于，各该轴近其左、右二侧的所述旋转体具有相位差。

9.如权利要求7或8所述的用于使化学液与基板表面均匀反应的设备，其特征在于，该多个旋转体分别为一凸轮、偏心轮或椭圆形结构。

10.如权利要求6所述的用于使化学液与基板表面均匀反应的设备，其特征在于，该多个旋转体的外径，由该轴的一端至另一端呈由大至小、或由小至大的排列。