[发明专利]磁盘用玻璃基板的制造方法及磁盘的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种用作计算机等的记录介质的磁盘用玻璃基板的制造方法及磁盘的制造方法。

背景技术

随着信息化技术的高度化，信息记录技术、特别是磁记录技术正在显著进步。对用于磁记录介质之一的HDD（硬盘驱动器）等的磁盘来说，正在持续进行快速的小型化、薄片化、记录密度的增加及存取速度的高速化。在HDD中，使在圆盘状的基板上具有磁性层的磁盘高速旋转，使磁头在该磁盘上浮起飞行，与此同时进行记录和再生。

由于伴随存取速度的高速化，磁盘的旋转速度也变快，因而对磁盘来说要求更高的基板强度。另外，随着记录密度的增加，磁头也从薄膜磁头向磁阻磁头（MR磁头）、乃至巨磁阻磁头（GMR磁头）发展，磁头自磁盘的浮起量逐渐变窄至5nm左右。因此，当磁盘面上具有凹凸形状时，有时会出现磁头碰撞磁盘所致的破碎损害、和/或由空气的绝热压缩或磁头和磁盘的接触导致加热而出现读取错误的热粗糙（thermal asperity）损害。为了抑制这种对磁头产生的损害，将磁盘的主表面预先加工成极平滑的表面变得极为重要。

因而目前，作为磁盘用的基板，逐渐使用玻璃基板代替以往的铝基板。这是因为，与由作为软质材料的金属构成的铝基板相比，由作为硬质材料的玻璃构成的玻璃基板在基板表面的平坦性、基板强度和刚性方面优异。磁盘所用的玻璃基板一般通过对其主表面实施磨削加工和/或抛光加工等来制造。作为玻璃基板的磨削加工和/或抛光加工，有利用具有行星齿轮机构的双面抛光装置来实施的方法。

如专利文献1中所述，在行星齿轮机构中，将玻璃基板夹持在粘附有抛光垫（抛光布）的上下平板间，在将混悬有磨粒的抛光液（浆液）供给到抛光垫与玻璃基板之间的同时，通过使玻璃基板与上下平板相对移动，将玻璃基板的主表面加工成平滑表面。

另外，玻璃基板还具有作为脆性材料的一面。因此，在磁盘用玻璃基板的制造工序中，通过在加热的化学强化液中浸渍玻璃基板，将玻璃基板表层的锂离子、钠离子分别离子交换为化学强化液中的钠离子、钾离子，由此，在玻璃基板的表层形成压缩应力层来进行强化（玻璃强化工序）。

另外，在磁盘用玻璃基板的制造工序中，已成为重要的课题是，在通过磨削加工和/或抛光加工等进行平滑化的同时，玻璃基板表面的极少的污染也要除去，以保持基板表面的清洁。因此已知，在上述各工序之后，为了最终使基板表面清洁，在酸性条件下进行洗涤。

然后，在表面通过磨削加工和/或抛光加工等而被平滑化的磁盘用玻璃基板上，形成数nm水平的薄膜（磁性层），进行记录/再生磁道等的形成。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2009-214219号公报

发明内容

发明要解决的课题

然而，在磁盘用玻璃基板的制造工序所用的制造装置中，如专利文献1中所述，在磨削装置和抛光装置中有时采用不锈钢制部件。另外，在化学强化工序中，也有时采用不锈钢制材料。即，在进行采用不锈钢制装置的工序时，有可能由这些装置产生源于不锈钢的金属系污染物（特别是铁系物质），附着在玻璃基板上。另外，在磨削装置和抛光装置所用的磨粒等各工序中所使用的辅助材料中，有时也含有金属系污染物质。

在给玻璃基板带来影响的污染中，特别是金属系微粒附着的污染导致在磁性层成膜后的表面上产生凹凸，成为使制品的记录/再生等电特性和/或成品率下降的原因。因此，在磁盘用玻璃基板的制造工序中，必须除去这些污染。特别是考虑到当随着记录密度的提高，磁头自磁盘的浮起量愈发减小时，对来自装置材质的污染物也必须考虑在内。

然而，来自不锈钢的金属污染物不易被腐蚀，采用洗涤工序中一般使用的酸性水溶液或碱性水溶液等洗涤液难以除去，要除去这些金属污染物，必须使用具有强力反应性的酸性溶液（例如，氢氟酸）等。

另一方面，在将具有强力反应性的酸性溶液用作洗涤液时，存在的问题是，玻璃基板的表面也受到影响，表面粗糙度变大。因此，为了更进一步改善玻璃基板表面的平滑性和洁净度，要求洗涤处理使用能够有效除去牢固地附着在玻璃基板上的金属污染物、且不给玻璃基板带来影响的洗涤液。