[发明专利]双真空室离子束抛光系统及抛光方法

权利要求书

1.一种双真空室离子束抛光系统，包括真空工作室（1），其特征在于：所述真空工作室（1）旁设有用于装卸工件的辅助真空室（2），所述真空工作室（1）与辅助真空室（2）之间设有用于控制二者通断的插板阀（3），所述真空工作室（1）和辅助真空室（2）内设有可在二者之间传送工件的工件传送装置（4）。

2.根据权利要求1所述的双真空室离子束抛光系统，其特征在于：所述工件传送装置（4）包括传送小车（42）、小车驱动组件（43）和一对导轨（41），所述传送小车（42）装设于所述一对导轨（41）上，所述小车驱动组件（43）驱动传送小车（42）沿所述导轨（41）行进。

3.根据权利要求2所述的双真空室离子束抛光系统，其特征在于：所述一对导轨（41）于插板阀（3）处隔断，所述传送小车（42）上沿行进方向至少设有三组滚轮（421），当传送小车（42）行经导轨（41）的隔断处时，至少两组滚轮（421）保持支承于一对导轨（41）上。

4.根据权利要求3所述的双真空室离子束抛光系统，其特征在于：所述一对导轨（41）中至少一条导轨（41）上设有导向筋（411），各组滚轮（421）上设有与所述导向筋（411）配合的导向凹槽（422）。

5.根据权利要求4所述的双真空室离子束抛光系统，其特征在于：所述小车驱动组件（43）包括与动力源连接的主动小齿轮（432）、两个从动大齿轮（433）以及沿所述导轨（41）布置的齿条（431），所述主动小齿轮（432）和两个从动大齿轮（433）均装设于所述传送小车（42）上，所述两个从动大齿轮（433）分设于所述主动小齿轮（432）两侧并与主动小齿轮（432）、齿条（431）啮合，所述两个从动大齿轮（433）之间的中心距大于所述导轨（41）于插板阀（3）处的隔断距离。

6.根据权利要求2至5中任一项所述的双真空室离子束抛光系统，其特征在于：所述传送小车（42）上装设有工件托盘（44）和用于驱动所述工件托盘（44）升降的升降驱动装置（45）。

7.根据权利要求6所述的双真空室离子束抛光系统，其特征在于：所述升降驱动装置（45）包括丝杆螺母传动机构（451）、水平导轨（452）、竖直导轨（453）、连杆传动机构（454）、升降驱动电机（455）以及滑设于所述水平导轨（452）上的滑块（456），所述丝杆螺母传动机构（451）中的丝杆与升降驱动电机（455）的驱动轴连接，丝杆螺母传动机构（451）中的螺母与滑块（456）连接，所述工件托盘（44）滑设于所述竖直导轨（453）上，所述连杆传动机构（454）一端与滑块（456）连接，另一端与工件托盘（44）连接。

8.根据权利要求7所述的双真空室离子束抛光系统，其特征在于：所述连杆传动机构（454）包括与滑块（456）铰接的第一连杆（4541）、与工件托盘（44）铰接的第二连杆（4542）以及中部铰接于传送小车（42）侧壁上的第三连杆（4543），所述第一连杆（4541）和第二连杆（4542）分别铰接于第三连杆（4543）的两端。

9.根据权利要求8所述的双真空室离子束抛光系统，其特征在于：所述真空工作室（1）内设有离子源（11）、离子源运动系统（12）和中和器（13）。

10.一种用如权1至9任一项所述的双真空室离子束抛光系统对工件进行抛光的方法，包括以下步骤，

S1）安装工件；

S2）真空环境下离子束抛光加工；

S3）取出工件；

其特征在于：

在进行步骤S1）时，先在真空工作室（1）旁的辅助真空室（2）内将工件安装在工件传送装置（4）上，再关闭辅助真空室（2），将辅助真空室（2）抽气至真空工作室（1）中的压力状态，打开真空工作室（1）与辅助真空室（2）之间的插板阀（3），通过工件传送装置（4）将工件输送到真空工作室（1）并在真空工作室（1）中完成对工件的定位装夹，再将工件传送装置（4）退回辅助真空室（2），关闭插板阀（3）；

在进行步骤S3）时，先打开插板阀（3），工件传送装置（4）进入真空工作室（1）卸下工件，再通过工件传送装置（4）将工件带回辅助真空室（2），关闭插板阀（3）后向辅助真空室（2）充气至大气压力，最后打开辅助真空室（2）取出工件。