[发明专利]一种用于抛光垫研磨盘的氮气输送装置有效
申请号: | 201210231300.1 | 申请日: | 2012-07-05 |
公开(公告)号: | CN103522171A | 公开(公告)日: | 2014-01-22 |
发明(设计)人: | 邵尔剑 | 申请(专利权)人: | 上海宏力半导体制造有限公司 |
主分类号: | B24B37/34 | 分类号: | B24B37/34;B24B57/02 |
代理公司: | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 张静洁;徐雯琼 |
地址: | 201203 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 抛光 研磨 氮气 输送 装置 | ||
1.一种用于抛光垫研磨盘的氮气输送装置,其特征在于,包含:
氮气输送管道(1),所述的氮气输送管道(1)分别连接外部的氮气源与平台调节器;
气阀(2),所述的气阀(2)设置在氮气输送管道(1)上。
2.根据权利要求1所述的用于抛光垫研磨盘的氮气输送装置,其特征在于,所述的气阀(2)设置在氮气输送管道(1)与抛光垫研磨盘之间。
3.根据权利要求1所述的用于抛光垫研磨盘的氮气输送装置,其特征在于,还包含:气路接头(3),所述的气路接头(3)分别通过管路与外部的研磨液供给系统的气控系统以及气阀(2)相连;当外部的研磨液供给系统的气控系统供气从而打开研磨液供给系统的阀门开始输送研磨液,气路接头(3)则将导通研磨液供给系统的气控系统的部分气体传送到气阀(2),气阀(2)打开;当外部的研磨液供给系统的气控系统停止供气从而关闭阀门停止输送研磨液,则气阀(2)关闭。
4.根据权利要求3所述的用于抛光垫研磨盘的氮气输送装置,其特征在于,所述的气路接头(3)为三通接头,当开通控制研磨液供给系统的气体经过所述的三通接头,部分气体进入气阀(2)以导通气阀(2)。
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