[发明专利]一种掺杂三氧化二钒粉粉体材料的制备方法无效

专利信息
申请号: 201210197657.2 申请日: 2012-06-15
公开(公告)号: CN102674457A 公开(公告)日: 2012-09-19
发明(设计)人: 刘兴海;樊美娟;张依福;黄驰;黎厚斌 申请(专利权)人: 武汉大学
主分类号: C01G31/02 分类号: C01G31/02
代理公司: 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 代理人: 汪俊锋
地址: 430072 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 掺杂 氧化 二钒粉粉体 材料 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及到一种掺杂三氧化二钒粉粉体材料的制备方法,属于无机功能材料领域。

背景技术

三氧化二钒晶体(V2O3)大约在160K呈现“金属—绝缘体相变”,即(MIT)现象。V2O3有两个与温度相关的相变点,在约160K发生低温反铁磁绝缘相(AFI)到高温顺磁金属相(PM)的一级相变,电阻率变化呈负温度系数电阻(NTC)特性,即电阻值随温度的升高而减低。在约550K的温度处发生低温顺磁金属相(PM)到高温顺磁绝缘相(PI)的二级相变,相变时电阻率变化呈正温度系数电阻(PTC)特性即随温度的升高而升高。伴随着相变的发生,除电阻率发生变化外,V2O3晶体的磁化率、光透射率和反射率等物理性能也产生突变。这些物理性质的突变表现得非常优异,尤其是单晶V2O3在低温一级相变时电阻率突变甚至达7个数量级。通过掺杂得到的掺杂三氧化二钒可有效改变其相转变温度,更有利于拓展其应用范围。因此,掺杂V2O3在光电开关、PTC材料、温度传感器和电流整流器等方面有着广泛的应用。

目前关于掺杂V2O3的制备方法主要有两大类:物理方法和化学方法。物理方法主要有:脉冲激光沉积法、物理气相沉积法、磁控溅射法、激光诱导气相沉积法等。但这类方法存在较多的缺点,如设备昂贵,工艺过程复杂,制备的产物少,能耗比很大,不适宜于工业生产与应用。化学方法主要有:化学气相沉积法、溶胶凝胶法(Sol-Gel)、热分解法、化学沉淀法,水热反应法等;在这些方法中,其中水热反应法由于过程简单,容易控制,可以适应大规模的生产而备受关注。而目前采取的水热法制备掺杂V2O3还存在一些缺点:制备成本高,污染环境,掺杂原子不能有效地掺杂到V2O3晶体中,不适宜工业大规模生产等。另外,利用廉价的偏钒酸铵为初始原料,经过草酸处理转化为配合物,再经过还原剂水热处理得到VO2,然后煅烧转化生成V2O3,这种方法目前还未见报道。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于提供一种制备掺杂V2O3粉体材料的方法,该方法工艺过程简单、产品质量好、成本低廉、环境友好、易于控制,可以实现大规模工业生产。

本发明的技术方案是:

一种掺杂三氧化二钒粉粉体的制备方法,包括以下步骤:

(1)将偏钒酸铵、蒸馏水、草酸和掺杂剂混合,形成溶液,其中草酸与偏钒酸铵的摩尔比在0.5~8.0之间;

(2)将步骤(1)的所得溶液转移入聚四氟乙烯水热釜中,在150~280℃下进行水热反应3~168h,然后经出料、离心、洗涤以及干燥,得粉体材料;

(3)将步骤(2)得到的粉体材料,在惰性气氛中550~1000℃煅烧1~12h,即得到掺杂三氧化二钒粉体材料。

本发明方法中,掺杂剂选用Cu、Cr、Al、Ba、Ca、Ti、Hf、Zr、Cd、Fe、Co、Ni或Re中一种或几种的可溶性盐。

上述步骤(1)中草酸与偏钒酸铵的物质的摩尔比优选为1.5~4.5。

上述步骤(2)中水热反应温度范围优选180~240℃;水热反应时间优选12~96h。

上述步骤(3)中惰性气氛为高纯氩气(99.999%)或高纯氮气(99.999%),煅烧温度优选650~850℃,煅烧时间优选3~8h。

按本发明方法制备的掺杂三氧化二钒的结构为:(V1-xMx)2O3,其中M为掺杂元素,即Cu、Cr、Al、Ba、Ca、Ti、Zr、Cd、Fe、Co、Ni或Re中的一种或两种以上的混合物,0≤x≤0.1。

与现有技术相比较,本发明方法的优点是:

(1)能够实现低成本制备掺杂V2O3粉体材料;

(2)原料简单,绿色环保;

(3)工艺过程简单、产品质量好、易于控制,可以实现大规模工业生产。

附图说明

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