[发明专利]用于光配向工艺的曝光设备和制造液晶显示器的方法

说明书

技术领域

本发明的示例性实施例涉及用于光配向（photoalignment）工艺的曝光设备和制造液晶显示器的方法。

背景技术

液晶显示器是最广泛应用的平板显示器类型之一，通常包括上和下显示面板以及置于其间的液晶层，上和下显示面板上设置有场产生电极诸如像素电极和公共电极。液晶显示器通过施加电压到场产生电极而在液晶层中产生电场并通过所产生的电场决定液晶层的液晶分子的方向，由此控制入射光的偏振来显示图像。

在各种液晶显示器中，垂直配向（“VA”）模式液晶显示器（其中当不产生电场时液晶分子的纵轴相对于上和下显示面板垂直配向）由于大的对比度和宽的标准视角已得到广泛研究。

VA模式液晶显示器在单元像素中可形成多个域（domain），其中液晶的排列方向彼此不同，从而实现宽视角。如上所述，已经开发了光配向工艺，用于通过向包括光反应材料的配向层照射诸如紫外线的光来控制液晶分子的排列方向和排列角度，从而在单元像素中形成多个域。

发明内容

本发明的示例性实施例提供在液晶显示器的光配向工艺中使用至少两个光掩模的曝光设备以及用于使用该曝光设备制造液晶显示器的方法。

本发明的示例性实施例提供一种用于光配向工艺的曝光设备，其中该曝光设备包括：第一光掩模，包括多个透射部分；及第二光掩模，包括多个透射部分，其中第一光掩模和第二光掩模彼此部分重叠（overlap），使得第一光掩模和第二光掩模的每个包括重叠区域和非重叠区域，第一光掩模的重叠区域以及第二光掩模的重叠区域的至少之一包括至少两个子区域，且透射部分的形状或布置在至少两个子区域中彼此不同。

在一示例性实施例中，至少两个子区域可包括至少一个第一子区域和至少一个第二子区域，与第一光掩模的所述至少一个第一子区域中的透射部分对应的照射区域及与第二光掩模的所述至少一个第一子区域中的透射部分对应的照射区域可彼此重叠，且与第一光掩模的所述至少一个第二子区域中的透射部分对应的照射区域及与第二光掩模的所述至少一个第二子区域中的透射部分对应的照射区域可彼此不重叠。

在一示例性实施例中，至少一个第一子区域和至少一个第二子区域可交替布置。

在一示例性实施例中，第一光掩模的重叠区域的一个透射部分的面积与第二光掩模的重叠区域的一个透射部分的面积的总和可实质上等于或大于第一光掩模或第二光掩模的非重叠区域中的一个透射部分的面积。

在一示例性实施例中，第一光掩模的重叠区域的一个透射部分的面积与第二光掩模的重叠区域的一个透射部分的面积的总和可以是第一光掩模的非重叠区域中的一个透射部分的面积的约100%至约150%。

在一示例性实施例中，第一光掩模的透射部分可沿第一方向布置，且第一光掩模和第二光掩模中至少一个的所述至少一个第一子区域中的透射部分的沿第二方向的长度可沿第一方向逐渐改变，其中第二方向垂直于第一方向。

在一示例性实施例中，第一光掩模的所述至少一个第二子区域中的透射部分和第二光掩模的所述至少一个第二子区域中的透射部分可沿第一方向交替布置。

在一示例性实施例中，该设备还可包括：第一光源，向第一光掩模提供光；及第二光源，向第二光掩模提供光。

在一示例性实施例中，第一光源和第二光源可通过第一光掩模和第二光掩模倾斜地照射光。

本发明的另一示例性实施例提供一种用于光配向工艺的曝光设备，其中该曝光设备包括：第一光掩模，包括多个透射部分；及第二光掩模，包括多个透射部分，其中第一光掩模和第二光掩模彼此部分重叠，使得第一光掩模和第二光掩模的每个包括重叠区域和非重叠区域，第一光掩模和第二光掩模的每个包括第一部分和第二部分，与第一部分对应的照射部分不同于与第二部分对应的照射区域，透过第一部分中的透射部分的光的照射方向不同于透过第二部分中的透射部分的光的照射方向，且第一光掩模或第二光掩模的重叠区域中的透射部分的形状或布置不同于第一光掩模或第二光掩模的非重叠区域中的透射部分的形状或布置。

在一示例性实施例中，与第一光掩模的重叠区域中的一个透射部分对应的照射区域和与第二光掩模的重叠区域中的一个透射部分对应的照射区域可彼此重叠。

在一示例性实施例中，与第一光掩模的重叠区域中的透射部分的一部分对应的照射区域和与第二光掩模的重叠区域中的透射部分的一部分对应的照射区域可不重叠。

在一示例性实施例中，重叠区域可包括至少两个子区域，且透射部分的形状或布置在至少两个子区域中彼此不同。