[发明专利]喷涂处理位于挡板支架上的板

说明书

本申请是国际申请日为2004年6月10日(国际申请号为PCT/FR2004/050222)、进入国家阶段申请号为200480016541.8、发明名称为“喷涂处理位于挡板支架上的板”的申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及通过喷涂液体、粉状固体或气体材料处理板表面从而显著减轻边缘效应的方法。本发明更具体适用于沉积薄层，比如热沉积或冷沉积(尤其是等离子体增强沉积)，尤其适用于热解沉积，在热解沉积中喷涂膜的至少一种层的前体，所述前体是气体、液体或粉状固体。本发明首先涉及蒸汽的化学沉积(CVD化学气相沉积)，具体适用于SnO₂尤其是氟掺杂的SnO₂(SnO₂：F)的CVD沉积。

本发明对在通过喷涂气体、液体或粉状固体材料处理板表面时出现的边缘效应问题提供了解决方案。这是因为显然这种处理沿着边界不会均匀，导致板在靠近其边缘处和其主表面内部的性能存在很大差异。本发明通过将板放置在至少一个比该待处理板大的支架上来解决这个问题，使得在板边缘处和主表面内部的喷涂材料处理相同。支架可以认为是延展了板，使边缘和中心处的处理条件基本相同或者至少比较相似。本发明通过使支架充当所喷涂的材料的挡板获得了这种效果。支架以和板自身相同的方式充当挡板，使板延展，就好像板是无限大一样。

背景技术

在板玻璃连续带制造后直接进行CVD沉积是公知的，其中板玻璃通常由浮法玻璃设备制备。当玻璃带仍处于未切割状态而且在辊床上传送时进行沉积。将玻璃带切成各种板以后，通常发现得到的薄层在外观和厚度上都非常均匀，包括在近空心和边缘处。由于玻璃带的纵向条是在CVD沉积后切割的，所以边缘处的任何不均匀现象都不是问题，因为这些边缘无论如何都在切割操作中去除了。众所周知，通常玻璃是在辊床上运输时连续切割的。用于在辊上传送的系统是在玻璃工业中广泛用于传送玻璃板的系统。

在下文中，术语“板(panneau)”是指具有两个平行主表面和较小尺寸的边的物体，边的尺寸小于主表面的长度和宽度，主表面的长度和宽度都有限。因此，正从浮法玻璃设备上下来的连续玻璃带就不是板，因为它的长度没有限定。而切割连续玻璃带得到的玻璃板是板。板厚度可以是例如1-10mm。板在所有平行其主表面的方向上，可以具有大于10cm，或者甚至大于20cm的一维尺寸。在所有平行其主表面的方向上，其尺寸通常达到150cm。

在连续玻璃带上进行CVD沉积是公知技术。但是，也希望在具有固定尺寸的板(或板)上，比如已经切割的玻璃板上，进行CVD沉积。这种要求可能出现在例如下列具体情况：

如果在正从生产设备上下来的连续玻璃带上方没有可以直接安装CVD沉积设备的空间；或

如果希望制备在其每个面上都沉积了CVD涂层的板，其中一个面上的沉积是连续进行的，那么将玻璃带切成板，然后在另一面上进行“返工式”的CVD沉积；或

出于任何其它原因，需要在板进行沉积。

但是，申请人已经发现，当板在辊上运输的时候对其进行CVD沉积，所沉积的涂层在边缘附近并不均匀。可能是因为板尺寸有限，导致气体在靠近边缘处的流动由于气体可以通过板之间和辊之间而受到干扰。这种衬底表面的不连续会导致在一方面板表面的主要部分和另一方面其边缘之间的沉积条件存在着差异。这种不均匀性是显而易见的，体现在颜色不均匀(裸眼可以分辨)和厚度不均匀上。申请人已经发现，将待涂板放在支架尤其是基本上不透气的支架上，可以恢复边缘处的正确沉积条件，其中所述支架充当CVD气体的挡板。支架的尺寸(宽度和长度)必须大于板，迫使板附近的气体在其平行于板的路径持续一定距离，优选至少4cm。这个问题虽然是在CVD沉积的情况下详细说明的，但对任何通过喷涂液体、粉状固体或气体材料处理板都具有普遍意义。

发明内容

因此，本发明首先涉及通过喷涂气体、液体或粉状固体材料处理放置于至少一个支架上的至少一个板的表面进行处理的方法，所述支架延展到板以外，充当所喷涂的材料的挡板。通过这种方式，在整个接受处理的主表面上的处理基本相同，也就是说，在所述板主表面的边缘和更内部区域上相同。根据本发明，迫使所喷涂的材料在所述板的所有边缘附近都沿着和该板平行的方向，包括到所述板之外(也就是说尤其是图1中的d1区域)。具体而言，材料基本上沿着垂直于板的方向喷涂，支架迫使所喷涂的材料在所述板附近采取和所述板平行的方向。通常，材料通过和待处理板相对设置的至少一个喷嘴喷涂。通常，该喷嘴将材料垂直向下喷到水平放置的板上。通常，气体承载待喷涂的材料。

具体实施方式