[发明专利]喷涂处理位于挡板支架上的板

权利要求书

1.处理至少一个放置于至少一个支架(2)上的板(1)的整个主表面的方法，通过喷涂气体、液体或粉状固体材料进行，所述支架延展到所述板以外并充当所喷涂材料的挡板。

2.上述权利要求的方法，特征在于在所述板所有边缘的附近或外面，所喷涂材料被强迫在与所述板(1)平行的方向。

3.前述权利要求之一的方法，特征在于所述材料基本上沿着垂直于所述板的方向喷涂，所述支架迫使所喷涂材料在所述边缘的附近采取平行于所述板的方向。

4.前述权利要求之一的方法，特征在于所述处理是在沉积室(6)中通过热解薄层沉积的方法。

5.前述权利要求之一的方法，特征在于所述处理是通过化学反应由汽相沉积薄层的方法。

6.前述权利要求之一的方法，特征在于所述支架水平延展到所述板(1)的所有侧以外。

7.前述权利要求之一的方法，特征在于所述支架携带所述板，以使其在至少一个横向狭缝形式的喷嘴(3)下运转，所述喷嘴释放所喷涂材料并且在横向方向比所述板宽度更宽。

8.前述权利要求之一的方法，特征在于所述喷嘴(3)水平延展到所述板的每侧以外至少4cm。

9.前述权利要求之一的方法，特征在于所述支架水平延展到所述板的全部侧以外至少4cm。

10.前述权利要求之一的方法，特征在于所述支架是运转着的带(5)。

11.前述权利要求之一的方法，特征在于所述支架提供大于60的气体单一压降系数。

12.前述权利要求之一的方法，特征在于所述所述方法是连续的，多个板放置在带(5)上，所述带形成了通过沉积室的循环回路。

13.前述权利要求之一的方法，特征在于带在沉积室以外并且返回到室中之前经过加热，以减少在沉积室(6)中释放的化合物的量，以及浸渍剂的量。

14.前述权利要求之一的方法，特征在于所述板是平的。

15.前述权利要求之一的方法，特征在于所述板包括玻璃板。

16.一种板，包含在平行于其主表面的所有方向上具有至少10cm的玻璃板，所述玻璃板在其至少一个主表面上和其所有侧边上涂覆有至少一层薄层，其中所述主表面被采用权利要求1-15任一项的方法进行处理。

17.前述权利要求16的板，特征在于所述玻璃板在平行于其主表面的所有方向上至少为20cm。

18.前述权利要求16或17的板，特征在于所述层是SnO₂：F。

19.上述板权利要求16-18任一项的板在制备等离子体、LCD或TFT屏幕、烤炉炉门、平面灯、光电池中的应用。