[发明专利]基于SET/MOS混合结构的D触发器有效
申请号: | 201210001145.4 | 申请日: | 2012-01-05 |
公开(公告)号: | CN102545839A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 魏榕山;陈锦锋;陈寿昌;何明华 | 申请(专利权)人: | 福州大学 |
主分类号: | H03K3/012 | 分类号: | H03K3/012;H03K3/02 |
代理公司: | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人: | 蔡学俊 |
地址: | 350002 福建省福州市铜*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 set mos 混合结构 触发器 | ||
1.一种基于SET/MOS混合结构的D触发器,其特征在于,其包括:
一第一NMOS管, 其源极为该D触发器的输入端;
一第一PMOS管,其漏极与所述第一NMOS管的漏极连接;
一时钟信号输入端,其与所述的第一NMOS管和第一PMOS管的栅极连接;
一电容,其一端与所述第一NMOS管的漏极连接,另一端接地;以及
一单输入SET/MOS混合电路,其输入、输出端分别于所述第一PMOS管的源极连接。
2.根据权利要求1所述的基于SET/MOS混合结构的D触发器,其特征在于:所述的SET/MOS混合电路包括:
一PMOS管,其源极接电源端Vdd;
一NMOS管,其漏极与所述PMOS管的漏极连接;以及
一SET管,其与所述NMOS管的源极连接。
3.根据权利要求2所述的基于SET/MOS混合结构的D触发器,其特征在于:所述PMOS管的参数满足:沟道宽度Wp为22 nm,沟道长度Lp为66 nm,栅极电压Vpg为0.394V;所述NMOS管的参数满足:沟道宽度Wn为22 nm,沟道长度Ln为66 nm,栅极电压Vng为0.450 V;所述SET管的参数满足:隧穿结电容Cs, Cd为0.15 aF,隧穿结电阻Rs, Rd为450 KΩ,背栅电压Vctrl为0.20 V,背栅电容Cctrl为0.10 aF;所述电容为0.30pF。
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