[实用新型]薄片激光介质的温度控制装置无效
申请号: | 201120056095.0 | 申请日: | 2011-03-06 |
公开(公告)号: | CN201966487U | 公开(公告)日: | 2011-09-07 |
发明(设计)人: | 冯国英;周寿桓;杜永兆;杨火木 | 申请(专利权)人: | 四川大学 |
主分类号: | H01S5/024 | 分类号: | H01S5/024 |
代理公司: | 成都科海专利事务有限责任公司 51202 | 代理人: | 刘双兰 |
地址: | 610207 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 薄片 激光 介质 温度 控制 装置 | ||
1.一种薄片激光介质温度控制装置,包括激光介质(1)、焊接层(2)、热沉(3)、导热胶(4)、散热器(7)、风扇(8)及固定架(12)、闭环电路控制系统(13)和计算机系统(14);其特征在于还包括由若干半导体制冷片(6)组成的半导体制冷片阵列(5),半导体制冷片(6)的冷端面(9)及热端面(10),温度传感器(11);所述半导体制冷片(6)冷端面(9)与对应的温度传感器(11)连接;各半导体制冷片(6)的冷端面(9)通过导热胶(4)与热沉(3)连接;半导体制冷片(6)的热端面(10)与散热器(7)紧密连接;闭环电路控制系统(13)与温度传感器(11)、半导体制冷片(6)、风扇(8)、以及计算机系统(14)连接。
2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于所述的热沉(3)的厚度为0.5-5mm。
3.根据权利要求1或2所述的装置,其特征在于所述的半导体制冷片阵列(5)的形状可以是矩形、或者方形、或者圆形,或者与激光介质(1)的分布形状相对应。
4.根据权利要求1或2或3所述的装置,其特征在于所述的半导体制冷片阵列(5)的排列方式可以为方形阵列、或者矩形阵列、或者扇形阵列。
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