[发明专利]可位移调整磁控管的装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种溅镀设备，特别是涉及一种可位移调整磁控管的装置。

背景技术

磁控溅镀具有增加溅镀速率的优点，且一般磁控溅镀方式，是在一个真空腔内设置有数个靶材，且各个靶材之间配置有阳极电极，所述靶材对应于一个基板，在该基板背面设置有磁场形成装置(也称磁控管)，在该真空腔内导入溅镀气体，且所述阳极电极接地电位的状态下，对所述靶材同时施加电压时，利用该磁场形成装置所形成的磁场，使电子拘束于靶材的表面附近，溅镀气体产生电离的电子流轰击所述靶材，使所述靶材的原子被击出变成气相并溅镀于基板而成膜。

若固定该磁场形成装置的位置，所述靶材的表面被溅镀较不均匀，使得靶材的使用率较低、成本较高，因此中国台湾I302573专利案公开的磁控管溅镀装置，是利用一个第一马达驱动一个靶材安装板产生移动，且利用一个第二马达驱动一个磁铁保持构件产生移动，且该磁铁保持构件能相对于该靶材安装板维持平行状态下相对位移，虽然这种磁控管溅镀装置利用该磁铁保持构件相对于该靶材安装板相对位移，已具有调节磁场分布，使溅镀靶材表面消耗更加平均、提升靶材利用率及提高薄膜均匀性的功效，但是却无法适用不同型态靶材、或对应特定溅镀制程所需的磁场强弱调节。另外，中国台湾I220905、I257432及I247044等专利案均是使磁铁相对靶材作一维的平行移动，不具有二维调整磁场强弱的功能。

有别于上述专利案，中国台湾公告编号第454048号专利案利用一个移动装置能驱动一个磁铁相对于一个靶标产生平行移动，再利用一个电动机驱动一支螺杆，使得一个可动架带动该移动装置与磁铁相对于该靶标产生不同的距离变化，借此虽然能调整磁场大小、使电浆状态稳度，且达到成膜均质目的，但是因为该可动架上承载有该移动装置与该磁铁，整体重量重，当利用电动机驱动螺杆时所产生的运动惯量大，且控制复杂。再者，用于驱动磁铁相对于靶标产生平行移动的马达，偏重在该移动装置一侧，整体体积也较大。

发明内容

本发明的目的在于提供一种能使靶材消耗平均、提升靶材利用率、提高薄膜均匀性且容易调整磁场大小的可位移调整磁控管的装置。

本发明的可位移调整磁控管的装置，包含一个基座单元、至少一个固设在该基座单元一侧的靶材单元、一个安装在该基座单元另一侧的直线驱动单元、一个受该直线驱动单元驱动的转接单元、至少一个安装在该转接单元的调整单元及至少一个连结于该调整单元的磁铁单元，该基座单元具有一个本体、一个固设在该本体一侧的阳极板组及一个与该阳极板组相反且固设在该本体另一侧的定位架，定义该本体具有一条中线，该靶材单元具有一个固设在该基座单元一侧且对应于该阳极板组的框座及一个安装在该框座的靶材组，该直线驱动单元具有一个沿该中线安装在该定位架的驱动件及一支受该驱动件驱动能沿一个第一方向往复直线位移的连动件，该中线的延伸方向垂直于该第一方向，该驱动件具有一个齿轮，该连动件具有一个与该齿轮啮合且沿该第一方向延伸的齿排，该转接单元具有一个连结在该连动件两端的悬架、至少一个连结于该悬架的固定板，该调整单元具有两支螺锁于该固定板且沿一个垂直于该第一方向的第二方向延伸的调整螺杆，及一个连结在所述调整螺杆之间的传动组，所述调整螺杆能通过该传动组同步位移，该磁铁单元具有一个连结于所述调整螺杆的定位板及一个定位在该定位板的磁铁组。

本发明的可位移调整磁控管的装置，该调整单元还具有数个安装于该固定板的防转组，所述防转组各具有一个套设在所述调整螺杆的夹件及一个螺锁于该夹件且能使该夹件对所述调整螺杆夹制或松释的把手。

本发明的可位移调整磁控管的装置，该调整单元的传动组具有两个分别固设在所述调整螺杆的皮带轮及一条绕设在所述皮带轮之间的皮带。

本发明的可位移调整磁控管的装置，该调整单元还具有一个安装在其中一支调整螺杆的操作件，转动该操作件能驱动所述调整螺杆同步位移，且该操作件为电子手轮或手动式手轮。

本发明的可位移调整磁控管的装置，该基座单元的本体具有一个座板及一个固设在该座板的导磁座，该座板呈中空框状，并具有一个第一开孔，该导磁座呈中空框状，并具有一个对应该第一开孔的第二开孔及一个与该第一开孔相反而封设在该第二开孔一侧的底封板，该磁铁单元能沿该第一方向移动地套设在该第一开孔与该第二开孔中，该磁铁组与该靶材组相反设置在该底封板的两侧，该阳极板组围设在该导磁座外侧。