[发明专利]一种PCB半塞孔的制造方法有效

专利信息
申请号: 201110337316.6 申请日: 2011-10-31
公开(公告)号: CN102413645A 公开(公告)日: 2012-04-11
发明(设计)人: 黄贤权;何新荣;杨成君 申请(专利权)人: 景旺电子(深圳)有限公司
主分类号: H05K3/40 分类号: H05K3/40
代理公司: 深圳市君胜知识产权代理事务所 44268 代理人: 刘文求;杨宏
地址: 518102 广东省深*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 pcb 半塞孔 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及PCB加工领域,尤其涉及一种PCB半塞孔的制造方法。

背景技术

    PCB塞孔是指在PCB(Printed Circuit Board 印刷电路板)制作过程中将部分孔用油墨塞住,以防止在焊接时流锡短路,PCB塞孔还可以防止这些非零件孔被外界环境氧化或腐蚀后造成短路,引起电性不良。

在PCB实际生产中,有些客户对于PCB塞孔有特殊要求:要求油墨不能完全塞饱满,塞孔的背面焊盘需作开窗处理,且对于塞孔的深度有要求,行业内称其为:半塞孔。在半塞孔生产过程中,必须严格控制塞孔的深度,按照客户的要求来进行塞孔制作。而如何有效地控制塞孔的深度是其难点。

现有技术中,一般采用将油墨完全塞满:塞孔的深度不小于孔的深度,甚至有时候,为了保证完全塞满,塞孔深度还未孔深的110%。然后,塞孔背面不曝光处理,再通过显影液将部分油墨冲洗掉,达到半塞孔的效果。

然而,靠显影液冲洗掉部分孔内油墨来达到控制塞孔深度,在显影时深塞孔度受显影参数的影响比较大;在实际生产中,既要考虑控制孔内油墨的深度,又要考虑板面线路层的油墨防止显影过度,很难同时达到最佳效果,另外,孔内油墨深度均匀性也相对较差。

有鉴于此,现有技术亟待改进和发展。

发明内容

鉴于上述现有技术的不足,本发明的目的在于提供一种PCB半塞孔的制造方法,旨在解决目前PCB半塞孔加工工艺中,孔内油墨的深度不容易控制,且均匀性也相对较差等问题。

本发明的技术方案如下:

一种PCB半塞孔的制造方法,其中,包括以下步骤:

S01、对需要进行半塞孔的孔进行预处理;

S02、用绝缘材料将所述孔塞住,且塞孔深度与要求的塞孔深度相同;

S03、对用绝缘材料塞住的孔进行两面曝光。

优选地,所述绝缘材料为油墨或者树脂。

优选地,所述步骤S02中利用回墨刀和刮刀进行塞孔处理。

优选地,所述步骤S02进一步包括:

S021、根据需要的塞孔深度,在数控设备内设定塞孔的刀数、塞孔的走刀速度、刮刀压力;

S022、根据所述设定,数控设备控制回墨刀和刮刀进行塞孔处理。

优选地,所述步骤S03中进行曝光时,所述菲林孔径比半塞孔的孔径小0.1mm。

有益效果:本发明提供了一种PCB半塞孔的制造方法,首先,对需要进行半塞孔的孔进行预处理;然后,用绝缘材料将所述孔塞住,且塞孔深度与要求的塞孔深度相同;最后,对用绝缘材料塞住的孔进行两面曝光。从而解决了现有技术半塞孔的深度不好控制,孔内绝缘材料均匀性较差的问题;另外,绝缘材料的用量较少、塞孔深度控制的均匀性较佳,良品率大大增加,达到了节约成本和提高生产效率的目的,具有很强的市场竞争力。

附图说明

图1为本发明的PCB半塞孔的制造方法的流程图。

图2为本发明实施例的PCB半塞孔的制造方法中塞孔的示意图。

图3为本发明另一实施例的PCB半塞孔的制造方法中曝光的示意图。

具体实施方式

本发明提供一种PCB半塞孔的制造方法,为使本发明的目的、技术方案及效果更加清楚、明确,以下对本发明进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。

请参阅图1,其为本发明的PCB半塞孔的制造方法的流程图。如图所示,所述PCB半塞孔的制造方法包括以下步骤:

S01、对需要进行半塞孔的孔进行预处理;

S02、用绝缘材料将所述孔塞住,且塞孔深度与要求的塞孔深度相同;

S03、对用绝缘材料塞住的孔进行两面曝光。

下面分别针对每一步骤进行详细说明:

所述步骤S01为对需要进行半塞孔的孔进行预处理。所述预处理包括在PCB板的相应位置上钻孔,然后进行化学镀铜处理(孔内镀铜的深度达到客户要求为准)等,因其为现有技术,在这里就不再赘述了。

所述步骤S02为用绝缘材料将所述孔塞住,且塞孔深度与要求的塞孔深度相同。与现有技术中塞满孔不同,本发明的半塞孔的制造方法中,直接根据客户需求进行塞孔:塞孔深度与客户所要求的塞孔深度相同。其中,所述绝缘材料可以为油墨或者树脂。下面以一个具体实施例,来描述一下是如何进行塞孔的。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于景旺电子(深圳)有限公司,未经景旺电子(深圳)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110337316.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top