[发明专利]等离子显示屏、等离子显示屏的后基板组件及其制作工艺有效

专利信息
申请号: 201110303390.6 申请日: 2011-09-30
公开(公告)号: CN102361001A 公开(公告)日: 2012-02-22
发明(设计)人: 曹瑞林 申请(专利权)人: 四川虹欧显示器件有限公司
主分类号: H01J17/04 分类号: H01J17/04;H01J17/16;H01J9/24;H01J17/49
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 吴贵明;余刚
地址: 621000 四川省绵阳市*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 等离子 显示屏 后基板 组件 及其 制作 工艺
【权利要求书】:

1.一种等离子显示屏的后基板组件,其特征在于,包括:

后基板;

纵向障壁(11)和与所述纵向障壁(11)相垂直设置的横向障壁(13),所述纵向障 壁(11)和横向障壁(13)均设置在所述后基板上,所述纵向障壁(11)和横向障壁(13) 围成放电空间;

寻址电极(30),从所述横向障壁(13)中穿过,并穿过所述放电空间,所述寻址电 极(30)与所述后基板之间具有距离。

2.根据权利要求1所述的后基板组件,其特征在于,所述寻址电极(30)呈弯折形,包括:

第一寻址电极(31),位于每个所述放电空间内,与所述纵向障壁(11)平行设置;

第二寻址电极(33),位于每个所述放电空间内,从所述第一寻址电极(31)的两端 分别沿所述横向障壁(13)向上延伸;

第三寻址电极(35),连接相邻的两个所述放电空间内的相邻的所述第二寻址电极 (33)。

3.根据权利要求2所述的后基板组件,其特征在于,所述横向障壁(13)包括位于所述第 三寻址电极(35)下方的第一横向障壁(13a)和位于所述第三寻址电极(35)上方的第 二横向障壁(13b)。

4.根据权利要求3所述的后基板组件,其特征在于,所述第一横向障壁(13a)的高度与所 述第二横向障壁(13b)的高度的比值范围为0.25至0.82。

5.一种等离子显示屏,具有后基板组件,其特征在于,所述后基板组件为权利要求1至4 中任一项所述的后基板组件。

6.一种等离子显示屏的后基板组件的制作工艺,其特征在于,用于制作权利要求1至4中 任一项所述的后基板组件,包括以下步骤:

在后基板上制作纵向障壁(11)和横向障壁(13),使所述纵向障壁(11)和横向障 壁(13)围成放电空间;

制作寻址电极(30),使所述寻址电极(30)穿过所述横向障壁(13)及所述放电空 间,并使所述寻址电极(30)与所述后基板之间具有距离。

7.根据权利要求6所述的制作工艺,其特征在于,在制作所述横向障壁(13)和寻址电极 (30)的步骤中进一步包括:

在后基板上制作第一横向障壁(13a);

制作电极(30),使得电极(30)位于所述第一横向障壁(13a)的上方;

制作介质;

在所述第一横向障壁(13a)上方制作第二横向障壁(13b)。

8.根据权利要求7所述的制作工艺,其特征在于,制作所述第一横向障壁(13a)和所述第 二横向障壁(13b)使用喷砂法或刻蚀法。

9.根据权利要求7所述的制作工艺,其特征在于,制作所述电极(30)使用印刷法或显影法。

10.根据权利要求7所述的制作工艺,其特征在于,在所述制作介质的步骤之前还包括干燥 和烧结步骤。

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