[发明专利]形成于薄片上的图案的位置及形状测定装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种例如通过涂敷或印刷而在薄片状的基材上成型的图案的位置及形状测定装置。

背景技术

在例如电容器电极或电池电极的制造工序中，使用在薄片基材(以下称为薄片)上涂布(涂敷)用于实现特定的电气特性的材料(涂敷物)的技术。在此情况下，有时在薄片整个面上涂布涂敷物，但在涂敷物价格高昂的情况下或在薄片端面上无法存在涂敷物的情况下，仅在薄片的特定部分上进行涂敷。

这种涂敷被称为局部涂敷、块状涂敷、图案涂敷等。

此时，必须对涂敷部分的尺寸(宽度、长度)进行测定，另外，在薄片双面上进行涂敷的情况下，必须对正反的尺寸(宽度、长度)均进行测定、管理。

图6是表示现有的涂敷图案测定装置的一个例子的图，是使用照相机进行测定的情况下的概念图。在图6中，薄片1支撑在输送辊(未图示)上，在涂敷生产线上以一定的速度被输送。在涂敷生产线的上方，设置多台(在图中为2台)安装有透镜30的照相机31，对涂敷尺寸进行测定。

在对薄片1进行测定的情况下，由于薄片以一定速度移动，所以照相机31不需要具有二维的信息，因此，作为拍摄元件，大多使用将传感器在沿与薄片的移动方向成直角的线上排列的线性传感器照相机。当然，也可以使用在拍摄元件中具有二维的信息的面传感器照相机。32表示涂敷部分，33表示关注部分。

在这种涂敷尺寸测定系统的情况下，要求下述性能。

1)轨道线变动的影响

理想状态下，薄片1沿输送线的相同位置输送。此时，将薄片被输送的位置称为轨道线，但因涂敷生产线的部位的不同，无法使薄片通过完全相同的部位，存在上下、左右的变动。例如，在输送辊之间没有任何支撑的部位等，有时薄片1会沿上下振动(轨道线变动)。必须使得该位置变动不会对涂敷尺寸的测定造成影响。

2)灵活应对涂敷图案

在图6中示出了针对薄片1的宽度而存在一个涂敷图案的情况(涂敷1条)，但有时在宽度方向上形成多个涂敷图案。例如，在薄片宽度方向上形成2个图案的情况下(涂敷2条)，用于拍摄的照相机需要3台。

另外，为了应对3条、4条等的涂敷图案，期望可以对薄片宽度整体进行拍摄。

3)小型化

由于涂敷生产线的大小直接影响生产成本，所以期望尽可能小型化。

专利文献1：日本特开2002-42789

专利文献2：日本特开2004-148534

发明内容

另外，在使用图6的现有例所示的照相机31进行薄片宽度测定的情况下，如果使用通常的透镜30，则存在下述问题，即，在存在涂敷生产线的上下变动(光轴方向的变化)时，照相机31的拍摄元件上的薄片的像的大小发生变化。

图7(a)是表示该状态的图。由于通常的透镜30使主光线通过透镜的中心，所以如图所示，被测定对象A的像成像为B。在被测定对象接近透镜而来到A’的位置的情况下，仍然由于主光线通过透镜的中心，所以A’的像成像为B’。

在图中，为了说明，改变B、B’的位置而进行了描绘，但B、B’均处于拍摄元件上，位置不改变。从图可知，B’成为比B大的像。即，如果因光轴方向的变动，使被测定薄片从A向A’的部位移动，则像的大小变化，因此无法准确地测定尺寸。

对于这种透镜，通过减小透镜的视角，从而可以减小光轴方向的变动的影响。

图7(b)是表示将透镜30的视角减小后的情况下的成像状态的图。如图所示，被测定对象A的像成像为B。在被测定对象接近透镜30而来到A’的位置的情况下，仍然由于主光线通过透镜的中心，所以A’的像成像为B’。

在图7(a、b)中，为了说明，改变B、B’的位置而进行了描绘，但B、B’均处于拍摄元件上，位置不改变。从图可知，B’成为比B大的像，但与图7(a)的情况相比，其变化比例变小。由于被测定薄片从A向A’的部位移动，所以像的大小略微改变，但其影响与视角较大的情况相比变小，因此可以减小尺寸的误差。

但是，如果视角较小，则一台照相机可以检查的面积变小，因此如果考虑成本，则无法对薄片的整个宽度全部进行拍摄。

通常，在薄片的端部、涂敷的端部等关注部分的可拍摄的位置处配置照相机。

近年，在二次电池及电子部件中使用涂敷技术制造部件材料的情况越来越多，与此相伴，制造出薄片的宽度及涂敷于其上的部件的条数各异的部件。在此情况下，应由照相机拍摄的位置及数量发生变化。在上述技术的情况下，存在下述课题：在所拍摄的位置及数量发生变化的情况下，需要与此相对应进行装置的重购或改造。