[发明专利]太阳能电池及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201110289350.0 申请日: 2011-08-31
公开(公告)号: CN102386267A 公开(公告)日: 2012-03-21
发明(设计)人: 富田孝司 申请(专利权)人: 富田孝司
主分类号: H01L31/072 分类号: H01L31/072;H01L31/074;H01L31/0725;H01L31/0336;H01L31/0352;H01L31/18
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 钟晶;於毓桢
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 太阳能电池 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种异质结型太阳能电池,其特征在于,将半导体A和传导体与该半导体A不同且具有比半导体A的电子亲和力a1大的电子亲和力a2的半导体B结合,同时对所述半导体A和所述半导体B各在1%以内进行晶格匹配。

2.根据权利要求1所述的异质结型太阳能电池,其特征在于,所述半导体A是IV族系半导体,所述半导体B是III-V化合物半导体。

3.根据权利要求1所述的异质结型太阳能电池,其特征在于,所述半导体A是p型间接迁移型半导体,所述半导体B是n型直接迁移型半导体。

4.根据权利要求1所述的异质结型太阳能电池,其特征在于,所述半导体A是p型锗,所述半导体B是n型InGaP。

5.根据权利要求4所述的异质结型太阳能电池,其特征在于,所述In和所述Ga的组成比分别是49%和51%。

6.根据权利要求4所述的异质结型太阳能电池,其特征在于,所述p型锗的空穴载流子浓度控制为1018cm-3

7.根据权利要求1所述的异质结型太阳能电池,其特征在于,所述半导体A是p型硅,所述半导体B是以n型GaP为主要成份的混晶。

8.根据权利要求7所述的异质结型太阳能电池,其特征在于,在所述GaP中的氮掺杂量是0.2%,晶格匹配在0.1%以内,在GaP和Si之间分别获得晶格匹配。

9.根据权利要求1所述的异质结型太阳能电池,其特征在于,所述半导体A是p型,并且是硅和锗的混晶,所述半导体B是n型化合物半导体的混晶。

10.根据权利要求1所述的异质结型太阳能电池,其特征在于,所述半导体A形成p型碳化硅,并在其表面上设置n型AlN。

11.根据权利要求1所述的异质结型太阳能电池,其特征在于,所述半导体A是p型硅,并在其表面上形成p型锗层,通过去除该锗层而去除氧化膜之后,形成n型GaP。

12.一种异质结型太阳能电池的制造方法,该异质结型太阳能电池中将半导体A和传导体与该半导体A不同且具有比半导体A的电子亲和力a1大的电子亲和力a2的半导体B结合,同时对所述半导体A和所述半导体B各在1%以内进行晶格匹配;该方法的特征在于,所述半导体A是p型硅,并在其表面上形成p型锗层,通过去除该锗层而去除氧化膜之后,形成n型GaP。

13.根据权利要求12所述的异质结型太阳能电池的制造方法,其特征在于,所述半导体A是p型硅,所述半导体B是以n型GaP为主要成份的混晶。

14.根据权利要求13所述的异质结型太阳能电池的制造方法,其特征在于,在所述GaP中的氮掺杂量是0.2%,晶格匹配在0.1%以内,在GaP和Si之间分别获得晶格匹配。

15.根据权利要求12所述的异质结型太阳能电池的制造方法,其特征在于,所述半导体A形成p型碳化硅,并在其表面上设置n型AlN。

16.根据权利要求12所述的异质结型太阳能电池的制造方法,其特征在于,所述半导体A是p型硅,并在其表面上形成p型锗层,通过去除该锗层而去除氧化膜之后,形成n型GaP。

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